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  • 本公开提供一种晶圆检测设备及检测方法,晶圆检测设备包括:晶圆载台,晶圆载台用于放置晶圆;检测镜组,检测镜组包括用于采集晶圆二维图像数据的二维图像采集装置和用于采集晶圆三维结构数据的三维图像采集装置;移动装置,移动装置与晶圆载台连接,用于调节...
  • 本发明公开了一种外延缺陷检测方法及外延缺陷检测装置。外延缺陷检测方法包括:提供待检测的外延结构;基于所述待检测的外延结构形成肖特基二极管结构;使用电子束扫描所述肖特基二极管结构的待测区域并采集对应的电流;根据采集的电流确定所述外延结构的缺陷...
  • 本发明公开了一种基于气体放气速率监测的键合终点判断方法及系统,本发明涉及微电子制造、半导体封装及MEMS制造技术领域,解决了终点判断主要依赖于诸如固定时间、特定温度或压力/位移参数等间接方法,存在判断不准确的技术问题,本发明通过摒弃了依赖固...
  • 本发明提供一种分选机合图检查方法、系统、计算机及存储介质,分选机合图检查方法包括:扫描晶圆,形成合成图档,设置若干个预设验证坐标,判断合成图档的坐标数据中是否包含全部预设验证坐标;若合成图档的坐标数据中不包含全部预设验证坐标,则将坐标数据中...
  • 本发明公开了一种晶圆宏观和微观自动检测设备,包括晶圆传输单元,晶圆传输单元包括晶圆传输机械手;晶圆装载料盒,设于晶圆传输单元沿X轴负方向的一侧,晶圆装载料盒用于存放晶圆;宏观检测单元,设于晶圆传输单元沿X轴正方向的一侧,宏观检测单元包括工作...
  • 一种装置及方法,该装置包括腔室主体、基板载台、翻转机械臂、聚光灯、图像采集装置和控制器,腔室主体具有上料口和下料口,且腔室主体内设置有安装板,基板载台设置在所述安装板上,且基板载台与上料口相邻设置,翻转机械臂设置在安装板上,翻转机械臂用于在...
  • 本发明公开了一种基于常温下导通电阻的半导体器件分组方法及相关装置,属于半导体制造技术领域。该方法包括在常温典型栅偏压和常温非典型栅偏压的情况下,分别对多个半导体器件的导通电阻进行测量,得到半导体器件的多组导通电阻的常温参数;若导通电阻在同样...
  • 公开了一种基底和检查基底的方法,根据本公开的实施例的检查基底的方法可以包括:将包括多个单元、第一对准标记和在平面图中与第一对准标记间隔开的第二对准标记的基底放置在台上;执行使用第一对准标记校正第一相机的未对准的第一校正;通过使用第一相机捕获...
  • 本发明涉及一种缺陷分类方法,包括:向碳化硅基板投射照明光束,使照明光束照射碳化硅基板的位置进行扫描的工序;对从碳化硅基板射出的反射光以及包括可视区的光致发光进行检测的工序;以及基于反射光的检测结果和包括可视区的光致发光的检测结果,对缺陷进行...
  • 本申请提供了一种晶圆吸附装置,包括:牙叉主体、牙叉盖板以及吸盘。牙叉主体包括承载部和柄部,牙叉主体的一个主平面上设置有沟槽。牙叉盖板盖设于沟槽,以与牙叉主体共同限定出气流通道。吸盘与牙叉主体固定连接,其具有朝向晶圆的吸附面以及导流结构。该导...
  • 本申请实施例提供一种夹持定位装置,包括:底板,底板由三个面板围成,三个面板包括前面板和相对的两个侧面板组成;承托凸起,设置于面板的底部且朝向面板的内侧凸设,三个面板共设有至少三个承托凸起;三个护臂,分别设置于三个面板上,每个护臂上固定有至少...
  • 本发明公开了一种贴片元件封端后加热再封端工艺,包括第二横移模组、二次浸浆载台、二次封端工位、机台面板、接板气缸升降台、加热箱、第一横移模组、一次封端工位、一次浸浆载台、输料机构和封端前横移机构,其封端工艺为:由提取机械手抓取元件移动至输料机...
  • 本申请涉及一种晶圆装载装置及CMP设备。该晶圆装载装置包括:装载板,具有彼此相背的上表面和下表面,装载板上具有用于装载晶圆的装载位,装载板还具有贯穿上表面和下表面的镂空区,镂空区位于装载位的范围之内,以使装载在装载位的晶圆覆盖镂空区;及对射...
  • 本发明公开了一种顶针结构、升降机构及薄膜沉积设备。所述顶针结构包括:顶针,包括杆部和针帽,所述针帽设于所述杆部的一端并能够沿所述杆部的轴向移动;重锤,所述重锤与所述杆部远离所述针帽的一端连接,所述杆部与所述重锤为一体结构。本申请提供的技术方...
  • 本申请涉及一种芯片顶针装置及半导体加工设备,涉及半导体技术领域。芯片顶针装置包括装配组件、顶针组件、针帽组件、限位组件和驱动组件,顶针组件包括多根顶针和安装座,沿第一方向,各顶针安装于安装座的上方,且各顶针的顶推端均位于同一水平面,安装座与...
  • 本发明公开了一种晶圆夹持机构和晶圆后处理装置,涉及半导体制造技术领域。该晶圆夹持机构包括:基座;多个夹持组件,沿基座的周向设置,用于水平夹持晶圆;所述夹持组件包括夹持板,所述夹持板的一端设置于支撑环,其另一端活动连接于所述基座;所述支撑环同...
  • 本发明公开了一种晶圆夹持机构、晶圆清洗装置和清洗方法,涉及半导体制造技术领域。该晶圆夹持机构包括:转盘;夹持组件,沿转盘的周向设置,且至少包括第一夹持组件和第二夹持组件;每个夹持组件包括立杆和设于立杆顶部的卡爪;立杆通过齿轮结构与转盘的外周...
  • 本公开提供了一种基于重力自适应限位的晶圆边缘刻蚀装置及方法,该装置包括:下腔室;上腔室,上腔室位于下腔室上方,能够相对于下腔室开合移动以形成封闭的刻蚀环境;多个限位机构,其中,每个限位机构均包括转轴以及绕转轴转动的L型摆臂,L型摆臂被配置为...
  • 本发明涉及一种能够提高键合精度的芯片键合装置,包括底座以及安装槽、限位螺杆;底座上开有方形底槽,槽中放置安装槽且安装槽能够在底槽中移动,安装槽内用于夹装元件;所述限位螺杆包括第一限位螺杆和第二限位螺杆;第一限位螺杆成对地安装在方形底槽的侧壁...
  • 本发明涉及一种衬底保持装置、衬底处理装置及衬底处理方法。提供一种能减轻旋转驱动部的负荷的技术。衬底保持装置(1)具备多孔质部件(21)、支撑部件(221)、旋转驱动部(25)及保持驱动部(24)。多孔质部件(21)具有吸附带框架的衬底(80...
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