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  • 本申请公开了一种金属标牌表面抛光装置,包括安装架、夹持驱动机构、调节打磨机构、固定机构、打磨驱动机构和抛光轮,其中,夹持驱动机构设置在安装架上;调节打磨机构设置在安装架的内侧,调节打磨机构包括联动组件、移动组件和转速变换组件,其中,联动组件...
  • 本发明属于汽车零部件加工设备技术领域,尤其为一种汽车装饰件表面抛光装置,加工台的上表面固定连接有抛光箱,抛光箱的上表面固定镶嵌有两个第一钢化玻璃,抛光箱的正面固定镶嵌有两个第二钢化玻璃,每个第二钢化玻璃的正面均开设有操作口,加工台的上表面开...
  • 本发明公开了一种磁控抛光加工碲锌镉衬底的方法及磁控复合抛光液。所述方法包括安装定位环和磁性支撑环、磁控加固、衬底装夹和磁控复合抛光。所述抛光液包含特定核壳尺寸与浓度的SiO2@Fe3O4核壳结构磁性磨料、氧化剂、分散剂、pH调节剂、缓蚀剂和...
  • 本发明公开了轴承抛光机构,涉及轴承抛光技术领域,包括抛光轴和从动轴,抛光轴对工件内圈抛光;推料环、定位块和气囊,定位块和气囊交替固定抛光轴一端;抛光轴保持位置固定的同时,工件交替穿过定位块和气囊;公轴和母轴,公轴设在抛光轴和从动轴一端,不同...
  • 本发明公开的一种内孔精密抛光设备,包括:底座;设置于底座上的Y轴组件;设置于Y轴组件上,与Y轴组件活动连接的X轴组件;跨设于Y轴组件上的立架;设置于立架侧壁的Z轴组件;与Z轴组件连接的抛光头组件;设置于X轴组件上的旋转驱动组件;设置于X轴组...
  • 本发明公开了一种立式放置钢管的内壁抛光装置,属于抛光设备技术领域。包括放置架和十字砂碟,放置架上安装有夹持机构和移动架;抛光杆包括连接头和若干连接管,连接头连接在驱动组件的输出端,连接管内滑动安装有两个限位杆,两个限位杆通过第二弹性件连接,...
  • 本申请涉及一种手表机芯零部件用卧式滚抛机,属于精密零部件表面处理设备技术领域。其包括支撑机构、驱动机构、主转动机构、传动机构和多个滚筒机构,驱动机构和主转动机构均架设于支撑机构上,主转动机构第一端传动连接驱动机构输出端,主转动机构设多个分布...
  • 本发明涉及飞灰熔融铸造陶粒技术领域,具体为一种飞灰熔融转化无害陶粒处理装置,解决了利用飞灰熔融对陶粒制造完毕后,对陶粒进行集中打磨时,现有的打磨设备只能对陶粒进行单次打磨,导致打磨耗时长、打磨效率低的问题。一种飞灰熔融转化无害陶粒处理装置,...
  • 本发明公开了一种筒类零件精密珩磨在位修整装置及方法,包括:机床底座,筒类零件通过定位夹具安装于机床底座上表面;与筒类零件对应的传动系统;连接于传动系统输出端的多油石珩磨头;滚珠丝杠型直线模组,相对机床底座以垂直方向设置,并与高精度位移控制系...
  • 本申请涉及一种轴承滚子超精装置及超精工艺,包括基座、摆动给进机构和工件驱动机构,摆动给进机构的摆动输出端连接有油石架,油石架上开设有油石槽,油石槽的一个侧面与油石槽的底面均匀敷设有弹性填充物,油石槽中嵌设有油石组,油石组包括沿油石槽侧面的弹...
  • 本发明属于半导体加工技术领域,涉及基于纳米磨料超声振动分散的碳化硅研磨系统与使用方法,适用于半导体材料超精密研磨抛光。本发明利用振动发生器对管内研磨液施加高频振动,打破磨料的沉降趋势与团聚倾向;通过在分流结构各出口设置密度传感器,实时监测供...
  • 本发明公开了一种CMP实时抛光液浓度在线调控系统及方法,所述系统包括:信号采集与预处理模块、耦合校正模型模块、浓度计算模块及闭环调控模块;所述信号采集与预处理模块,用于同步采集CMP抛光液的电学检测信号与光谱检测信号,并对两类信号进行预处理...
  • 本发明公开一种弯曲孔内表面抛光及强化处理装置和方法,外部可控方形平面磁场放置在带弯曲孔的待研磨工件的前后左右四个侧方,外部可控环形磁场以弯曲孔为中心环绕在待研磨工件的外周围,柔软磁性研磨头由多级研磨头通过转动连接件可拆卸式前后串接组成,每级...
  • 本发明公开了一种应用于平面研磨机的微米级竖直轴,包括竖直轴支架、丝杠组件、直线导轨组件、旋转平台组件及平衡气缸组件;平衡气缸组件的气缸通过连接块与承载旋转平台组件的上研磨主轴安装板连接,通过精密调节阀控制进气压力,以主动平衡运动部件的全部重...
  • 一种抛光设备包括:主轴,其在所述主轴的下部分中具有研磨轮;围绕所述主轴的壳体;和可移动阻尼器,其中,所述可移动阻尼器包括:下部支架,其设置在所述主轴的周界与所述壳体的内周界之间,其中所述主轴穿过所述下部支架;上部支架,其在竖直方向上与所述下...
  • 本发明提供一种化学机械抛光设备、晶圆加工方法和化学机械抛光系统,化学机械抛光设备包括:沿化学机械抛光设备的长度方向顺序设置的前置单元、竖直传输单元和加工单元,加工单元包括位于下层的抛光区和位于上层的清洗区,分别用于对晶圆进行抛光和清洗;竖直...
  • 本发明公开了一种复合抛光机床及其抛光方法,包括基座、传动机构、工作轴、修整轴和转台;传动机构设于基座上;工作轴设于传动机构上;工作轴上设有可绕Z向转动的夹持组件;修整轴设于传动机构上,修整轴上设有铣刀、车刀以及可绕Z向轴线转动的磨头;转台设...
  • 本发明涉及抛光打磨材料制备技术领域,具体为一种基于聚氨酯合成革的层控抛光垫及其制备方法。本发明克服了抛光垫的抛光速率衰减与微划痕缺陷问题。通过选用具有刚性脂环结构的二异氰酸酯与聚碳酸酯二醇合成高硬度水性聚氨酯骨架,采用机械发泡与中空微球复合...
  • 本发明涉及一种锆石胚料双筛料工位单排上料系统,包括两组落料筛料机构,每组落料机构包括落料机构和筛料机构;单排吸取转运机构,包括单排真空吸管,其上设有与排钻板上一排入料沉孔一一对应的真空吸附孔;二次定位机构,包括一组在夹紧状态或打开状态切换的...
  • 本发明公开了一种曲面自适应的柔性打磨装置及其打磨方法,包括柔性打磨头、打磨机连接罩和调节连接件,柔性打磨头间隔于打磨机连接罩的罩口设置,打磨机连接罩内沿中心轴线设置有中心立柱,且中心立柱延伸至打磨机连接罩的罩口处与柔性打磨头铰接;若干调节连...
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