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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 本发明公开了芯片制造技术领域的一种基于亲水脊柱的毫牛级两相流致振动抑制方法,应用于浸没式光刻机的浸没流场,方法包括沿气液两相流负压回收微通道的轴向处设置一条脊柱结构,该脊柱位于微通道内部中心,其长度与微通道相匹配;并将脊柱的表面处理为亲水表...
  • 本申请涉及PLC控制领域,更具体地,涉及一种基于PLC冗余控制装置的控制方法。所述方法包括:确定主用PLC控制器和备用PLC控制器;基于主用PLC控制器与远程单元进行交互;监控设备对主用PLC控制器进行监控,同时在预设时间间隔获取主用PLC...
  • 一种掩模版调节喷嘴,被配置为向掩模版处理模块的子容积供应调节流体,包括:入口端,被配置为从调节流体源接收调节流体;出口端,被配置为将调节流体分配到掩模版处理模块的子容积中,其中出口端被配置为递送两个分离的流体流,即跨掩模版处理模块中的掩模版...
  • 本发明公开了一种光学临近校正方法及计算机可读存储介质,属于半导体技术领域,该光学临近校正方法,包括提供第一掩模版,包括第一图案区与第一非图案区,第一图案区包含彼此分离的线路图形;调整第一图案区的尺寸得到第二图案区与第二非图案区;对第一图案区...
  • 本发明公开了一种改善光刻线宽均匀性的工艺方法,包括如下步骤:S1:在晶圆上进行多次光刻测试,以获取第一函数、第二函数和第一曝光区S2:提供晶圆,以第一扫描速度、第一曝光量在当前晶圆上进行光刻处理,并获取当前晶圆的每个曝光区域的实际线宽和线宽...
  • 本发明公开了一种光敏树脂组合物及其固化薄膜的延展性调控方法,所述光敏树脂组合物包括光敏树脂体系与弹性改性剂,其中弹性改性剂为邻苯二甲酸酯,且光敏树脂体系与弹性改性剂的质量比为(70‑97) : (3‑30)。调控时,在10‑25 ℃下向光敏...
  • 本发明涉及全息体视图打印技术领域,更具体的说是涉及一种基于LCOS的全息体视图打印系统,包括:光束发射模块、控制模块、扩束模块、分光模块、光程调节模块、无焦远心反转模块和全息干板;所述光束发射模块发射光束至所述扩束模块,所述扩束模块将光束扩...
  • 一种自动驾驶控制方法、系统、电子设备、车辆,所述方法用于分布在载具中互为冗余的多个自动驾驶控制器中的至少一个,各个自动驾驶控制器对应连接有执行器,所述方法包括:获取激活请求,进入激活过渡状态;执行其他所有所述自动驾驶控制器的状态是否均为激活...
  • 一种扩散旋转装置,配置于一光束的传递路径上。扩散旋转装置包括基板、转轴以及驱动元件。转轴连接于基板。驱动元件连接于转轴,且用以驱动转轴旋转。基板包括相邻配置的第一扩散区与光学区,第一扩散区具有多个第一扩散子区,其中各多个第一扩散子区沿着基板...
  • 本申请提供一种掩模版检测装置及检测方法,涉及光学检测领域,该装置包括承载结构和至少两对夹持组件,承载结构用于承载掩模版并可安装在运动台跟随运动台移动,至少两对夹持组件设置于承载结构相对侧端,任一对夹持组件包括相对的第一夹持组件和第二夹持组件...
  • 本发明涉及半导体工业用清洗剂领域,提供了一种用于光刻胶残留清除的清洗剂及其制备方法,按重量份数计,所述清洗剂包括以下原料:无机碱8‑12份,有机碱1‑4份,腐蚀抑制剂2‑5份,表面活性剂0.5‑3份,有机溶剂40‑60份,超纯水10‑20份...
  • 本发明公开了一种PLC分配式冗余控制的模拟量输出平滑切换方法,涉及工业自动化IO冗余控制技术领域,本发明包括工作架构设计、常态冗余控制、故障检测判定、故障冗余控制和系统组态配置,本发明常态下采用动态输出分配策略均分总输出目标值,冗余模块同步...
  • 本发明公开了一种三热源三轴微机械加速度计,其包括基底层、敏感层、和盖板;敏感层分三部分,分别检测X、Z、Y轴加速度,每个位置中心下方设置腔体,腔体中心设置加热器;敏感层检测X、Y轴加速度部分包含有两个热敏电阻,下方是矩形的中间检测腔;检测Z...
  • 本发明提供散热单元、曝光装置及物品的制造方法。该散热单元具有:散热构件,使热散出;以及传热构件,使通过吸收来自光源的光而产生的热传导到所述散热构件,在所述传热构件的所述光源所在侧的面配置有包含熔点比所述传热构件的材料高的材料的膜。
  • 本发明提供一种用于含金属光刻胶的显影剂组成物以及包括利用显影剂组成物的显影方法的图案形成方法。对于坐标x,如通过显影剂组成物的韩森溶解度参数(δd、δp、以及δh)所指定的,可以计算以坐标a作为中心值的溶解度半径Ra,可以计算以坐标b作为中...
  • 本发明提供一种离子注入后光刻胶的去除方法,包括步骤:提供一经过离子注入的半导体结构,半导体结构包括半导体衬底及位于半导体衬底上的光刻胶层,光刻胶层包括光刻胶主体层及覆盖于光刻胶主体层上的石墨碳硬壳层,提供一臭氧处理装置,臭氧处理装置包括液体...
  • 本发明提供了一种基于铂(II)配合物的化学放大光刻胶及其应用,该化学放大光刻胶包括含保护基团的聚合物树脂、光酸产生剂、酸淬灭剂和溶剂;其中,光酸产生剂包括第一光酸产生剂,第一光酸产生剂包括至少一种铂(II)配合物。本发明通过引入铂(II)配...
  • 本实用新型公开了一种热油检测仪器,包括:底座;固定杆,固定杆一端设置于底座,另一端固定设置有万向球;万向座,万向座嵌套于万向球;连杆组件,连杆组件一端设置于万向座外周面;探头,探头设置于连杆组件远离万向座的一端,并通过连杆组件调节自身位置;...
  • 本发明涉及曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法。一种曝光装置,是用来自光源的光对原版进行照明,进行一边使基板在扫描方向上移动一边将所述原版的图案曝光到所述基板的扫描曝光的曝光装置,所述曝光装置以使通过第1曝光而曝光的区域与通过第2曝光而曝光...
  • 提供能在实现装置的小型化的同时降低颜色不均的光源装置和具备该光源装置的投影装置。光源装置具备:激发光照射装置(70),其出射激发光;旋转轮装置(100),其具备包含使与激发光的波段不同的规定波段的光反射或透射过并且使激发光透射过的滤光区域(...
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