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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 感光性树脂组合物、固化物、层叠体、固化物的制造方法、层叠体的制造方法、半导体器件的制造方法及半导体器件
    感光性树脂组合物、固化物、层叠体、固化物的制造方法、层叠体的制造方法、半导体器件的制造方法及半导体器件_富士胶片株式会社_202480058505.5
    一种感光性树脂组合物、将上述组合物固化而成的固化物、包含固化物的层叠体、固化物的制造方法、层叠体的制造方法、包括固化物的制造方法的半导体器件的制造方法及包含固化物的半导体器件，上述感光性树脂组合物含有：树脂A，其包含具有烯属不饱和键的基团且...
    2026-04-15
  • 一种纳米压印和光刻工艺的兼容设备
    一种纳米压印和光刻工艺的兼容设备_浙江至格科技有限公司_202521129811.1
    本实用新型提供一种纳米压印和光刻工艺的兼容设备，包括上料单元、匀胶单元、压印曝光组件、显影单元、下料单元以及取料单元。压印曝光组件包括第一压印曝光作业单元、第二压印曝光作业单元、曝光单元、第一压印单元以及第二压印单元。上料单元、匀胶单元、显...
    2026-04-15
  • 用于非曼哈顿掩膜制造的基于规则的掩膜图形约束方法
    用于非曼哈顿掩膜制造的基于规则的掩膜图形约束方法_浙江大学_202610278700.X
    本发明公开了一种用于非曼哈顿掩膜制造的基于规则的掩膜图形约束方法，包括构建二值掩膜图像，按行扫描掩膜图像，根据每个掩码图案像素的邻居像素情况分配标签，重复扫描得到最终标签，将相同最终标签的区域作为最终连通区域；扫描各个连通区域，进行邻域前景...
    2026-04-15
  • 透镜驱动装置、相机装置和光学仪器
    透镜驱动装置、相机装置和光学仪器_LG伊诺特有限公司_202480056532.9
    本实施方式涉及一种透镜驱动装置，该透镜驱动装置包括：基部；第一承载件，该第一承载件设置在基部中；第二承载件，该第二承载件设置在第一承载件中；第一线圈和第一磁体，第一线圈和第一磁体用于使第一承载件沿光轴方向移动；第二线圈和第二磁体，第二线圈和...
    2026-04-15
  • 企业信贷审批方法、装置、电子设备及介质
    企业信贷审批方法、装置、电子设备及介质_中国建设银行股份有限公司山西省分行_202511781165.1
    本申请实施例公开了一种企业信贷审批方法、装置、电子设备及介质，涉及信息处理技术领域，该方法的一具体实施方式包括：响应于企业客户通过信贷申请终端提交的授权请求，向外部政务数据平台发起数据获取指令；接收外部政务数据平台基于数据获取指令反馈的企业...
    2026-04-15
  • 一种高选择比的掩模板Cr图形刻蚀方法
    一种高选择比的掩模板Cr图形刻蚀方法_天府兴隆湖实验室_202511967244.1
    本发明公开了一种高选择比的掩模板Cr图形刻蚀方法，属于掩模板制造的技术领域，在Cr层顶部涂覆光刻胶层，然后，进行曝光，在图形曝光的过程中，使用反向版图将图形加工到Cr层上，得到Cr图形层；利用物理沉积方式，在刻蚀后的光刻胶层以及Cr图形层上...
    2026-04-15
  • 晶圆图像形变的修正方法
    晶圆图像形变的修正方法_上海华力集成电路制造有限公司_202211343910.0
    本发明提供了一种晶圆图像形变的修正方法，提供一表面具有布线图形的晶圆，获取所述晶圆的设计版图和扫描图像，所述设计版图包括与所述布线图形相对应的设计图形，所述扫描图像包括与所述布线图形相对应的扫描图形；将所述扫描图像的中心与所述设计版图的中心...
    2026-04-15
  • 一种旋涂光刻胶的辅助装置
    一种旋涂光刻胶的辅助装置_合肥市国微光电科技有限公司_202521141138.3
    本实用新型涉及旋涂光刻胶技术领域，尤其是一种旋涂光刻胶的辅助装置，包括底座，底座的顶部设置有调整组件；调整组件包括转盘，转盘的顶部外壁上开设有等距离呈环形结构分布的移动槽，转盘的外部通过轴承活动安装有旋转座，移动槽的内部通过轴承活动安装有延...
    2026-04-15
  • 光刻设备、多波长相位调制扫描量测系统及方法
    光刻设备、多波长相位调制扫描量测系统及方法_ASML荷兰有限公司_202180038464.X
    一种量测系统，包括辐射源、第一光学系统、第二光学系统和第三光学系统、和处理器。所述第一光学系统将所述辐射分束成辐射的第一束和第二束，并在所述第一束和第二束之间施加一个或更多个相位差。所述第二光学系统朝向目标结构引导所述第一束和第二束以产生辐...
    2026-04-15
  • 一种正投影屏幕及投影系统
    一种正投影屏幕及投影系统_四川菲斯特科技有限公司_202511757982.3
    本发明属于投影显示领域，公开了一种正投影屏幕，依次包含成像层、微结构层和反射层，所述微结构层上设置有透明微结构与黑色微结构，所述透明微结构与所述黑色微结构交替相间排列，所述黑色微结构用于吸收光线，以所述透明微结构的材料折射率为n2，所述黑色...
    2026-04-15
  • 一种分布式驱动线控底盘的冗余容错控制系统及控制方法
    一种分布式驱动线控底盘的冗余容错控制系统及控制方法_江苏徐工工程机械研究院有限公司_202511785005.4
    本发明设计一种分布式驱动线控底盘的冗余容错控制系统及控制方法，该系统通过多层级冗余设计，包括电源子系统冗余、双控制器热备份冗余、四角模块独立控制互为冗余，结合降级容错机制，实现全线控底盘系统的高可靠性运行。系统包含DCDC、低压蓄电池、双控...
    2026-04-15
  • 曝光系统的控制方法和曝光系统
    曝光系统的控制方法和曝光系统_合肥芯碁微电子装备股份有限公司_202310159619.6
    本发明公开了一种曝光系统的控制方法和曝光系统，所述曝光系统的控制方法包括：获取所述曝光系统的工作参数和所述曝光系统的感光材料的曝光剂量输入值；根据所述工作参数和所述曝光剂量输入值获得所述脉冲激光器单脉冲发射能量；获取所述运动平台的位置同步信...
    2026-04-15
  • 一种高精度的正弦摆线型衍射波片的光学压印制备方法
    一种高精度的正弦摆线型衍射波片的光学压印制备方法_湖南大学_202310139800.0
    本发明公开了一种高精度的正弦摆线型衍射波片的光学压印制备方法，通过带有至少两层扭曲结构的正弦摆线型衍射波片作为偏振转换衍射波片来提高光学制备的精度，实现百纳米量级正弦摆线周期结构的光学压印。解决了基于偏振全息曝光系统制备正弦摆线型衍射波片速...
    2026-04-15
  • 一种光刻机的误差补偿系统
    一种光刻机的误差补偿系统_辰瓴半导体(嘉兴)有限公司_202511161621.2
    本申请涉及一种光刻机的误差补偿系统，涉及光刻机误差补偿技术领域，其包括设于光刻机上的承载台、掩模板、处理器，所述承载台的上表面沿圆周方向间隔且对称设置有若干楔块、线性制动器，所述线性制动器与所述承载台固定连接，所述楔块沿靠近或远离对称轴线的...
    2026-04-15
  • 一种基于双涡轮风扇阵列的投影仪立体散热系统
    一种基于双涡轮风扇阵列的投影仪立体散热系统_深圳紫晶光电科技有限公司_202520934029.0
    本实用新型涉及投影仪技术领域，且公开了一种基于双涡轮风扇阵列的投影仪立体散热系统，该立体散热系统用于对投影仪主体的显示单元面的散热，该立体散热系统由涡轮风扇、散热风道、投影仪显示单元、两个进风口、两个出风口组成，其中涡轮风扇包括第一涡轮风扇...
    2026-04-15
  • 一种便捷型手持夜视相机
    一种便捷型手持夜视相机_深圳市裕嘉达科技有限公司_202520334635.9
    本实用新型公开了一种便捷型手持夜视相机，包括：机体；摄取模块，装设在机体内部，设有感光元件；控制模块，装设在机体内部，设有处理器，所述处理器与感光元件连接；观测模块，设有内屏和外屏，内屏设置在机体的内部，外屏设置在机体的外表面，处理器分别与...
    2026-04-15
  • 电流感测放大器
    电流感测放大器_上海韦尔半导体股份有限公司_202510123387.8
    本发明的课题在于容易地设定前置放大器的输入电压。本发明包含前置放大器(10)，所述前置放大器(10)获得和电流检测电阻(R0)的上侧电压与下侧电压的差对应的前置放大器正输出(vc)及前置放大器负输出(vb)。前置放大器(10)具有第1运算放...
    2026-04-15
  • 电活性化合物、包含该化合物的组合物及图案形成的方法
    电活性化合物、包含该化合物的组合物及图案形成的方法_杜邦电子材料国际有限责任公司_202511409331.5
    本申请涉及电活性化合物、包含该化合物的组合物及图案形成的方法，具体涉及一种组合物，其包含酸敏性聚合物，所述酸敏性聚合物包含衍生自含有酸可分解基团的单体的第一重复单元；光致产酸剂化合物；非聚合电子受体化合物，所述非聚合电子受体化合物具有比光致...
    2026-04-15
  • 液冷CDU联机控制方法、装置、群控系统及数据中心
    液冷CDU联机控制方法、装置、群控系统及数据中心_科华数据股份有限公司_202511944850.1
    本申请适用于液冷系统技术领域，提供一种液冷CDU联机控制方法、装置、群控系统及数据中心。该方法适用于包括多个联机液冷CDU的液冷CDU群控系统，液冷CDU为主机或从机；该方法包括：主机检测到任一在运行的从机脱机且存在备机时，控制备机启动，控...
    2026-04-15
  • 抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法
    抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法_东京应化工业株式会社_202480057882.7
    本发明涉及抗蚀剂组合物，其为能够通过曝光而产生酸、且在显影液中的溶解性能够通过酸的作用而变化的抗蚀剂组合物，该抗蚀剂组合物含有：在显影液中的溶解性能够通过酸的作用而变化的基材成分(A)、和能够通过曝光而产生酸的产酸剂成分(B)，前述产酸剂成...
    2026-04-15
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