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  • 本公开提供一种电子装置,其特征在于,包含:一反射式面板,包含:一第一胆固醇液晶,用于反射一第一颜色光;以及一第一滤光层,设置在该第一胆固醇液晶下,其中该第一滤光层包含一第一开口;以及一光学感测元件,设置在该反射式面板下;其中,在一俯视方向上...
  • 本发明公开了一种基于锌阳极电致变色器件(ZECD)的智能动态防伪系统及其方法,旨在解决现有防伪技术静态、易复制、安全性低的问题。本发明的核心在于利用ZECD的多色独立调控优势,结合可分区寻址电极结构,构建一种具备动态多级防伪能力的显示装置。...
  • 一种具有支撑结构的电泳式显示器,包含:一控制基板、一相对基板,一电泳显示材料层设置在该控制基板与该相对基板之间、一像素电极层,包含多个像素电极,两该像素电极之间有一像素间隙;多个支撑结构,该些支撑结构具有支撑结构间隙。该支撑结构间隙具有至少...
  • 本发明公开了一种彩色电子纸显示器件,从视角方向依次包括顶层玻璃、电子纸显示层和COMMON电极,包括:所述顶层玻璃上设置有彩色滤光片与透明段码像素电极同层集成的集成层,所述集成层包括彩色滤光片层和图案化的透明导电段码像素电极层,所述段码像素...
  • 一种反射式显示装置包含反射式显示面板、设置于反射式显示面板上的盖板及设置于反射式显示面板与盖板之间的前光模块。前光模块包含光源及导光板。导光板包含本体、第一微结构、第二微结构及第三微结构。本体具有第一表面、第二表面及入光面,光源设置于入光面...
  • 本申请涉及半导体元件技术领域,提供了一种周期极化薄膜制备方法,包括:提供具有周期性排列的金属电极的薄膜结构。薄膜结构包括层叠设置的薄膜层与支撑结构,薄膜层与支撑结构键合连接,金属电极连接于薄膜层背离支撑结构的一侧。对具有金属电极的薄膜结构施...
  • 本发明涉及量子光学技术领域,公开了一种纠缠光场的相干反馈增强系统及方法。该系统通过采用对信号光场与闲置光场具有非对称透射率的控制耦合镜构建闭环相干反馈光路,配合光学谐振腔结构的反馈控制装置和工作于参量反放大状态的NOPA,实现了对纠缠源的低...
  • 本发明属于光学影像设备技术领域,具体涉及一种快门光圈一体式调节装置,包括:光圈机构,光圈机构具有可活动的遮挡叶片,通过遮挡叶片的动作来形成不同大小的光圈孔以实现对镜头光圈的调节;快门机构,快门机构设置在光圈机构顶端,快门机构具有可活动的快门...
  • 本发明公开了一种零反射手机摄影双头补光灯,涉及摄影设备技术领域,包括补光灯和圆偏振镜头,补光灯包括两个灯头,在灯头里面设置发光元件,表面设置有挡光片,所述挡光片采用圆偏振膜制作,利用CPL偏振原理从灯光中过滤掉了一些引起反射的光波成分;所述...
  • 本发明涉及摄影技术领域,尤其涉及一种摄影设备及摄影方法,包括预埋筒,预埋筒上端固定连接有伪装筒,伪装筒上开设有多个观察口,预埋筒上端开设有圆形通槽,预埋筒内固定连接有两个滑杆,两个滑杆中间滑动连接有支撑板,两个滑杆上均套有弹簧,弹簧位于预埋...
  • 本发明公开了一种手绘蛋糕影子工具,包括底座,所述底座的上端中部一体成型有二号螺纹连接座,所述二号螺纹连接座内螺纹连接有一号延长杆,所述一号延长杆上可拆卸安装有投影片调节机构,所述一号延长杆的上部螺纹连接有一号螺纹连接座,所述一号螺纹连接座的...
  • 本发明涉及投影模组技术领域,具体公开了一种LCOS激光投影模组,其包括沿光线传输路径依次设置的激光光源模块、激光散斑消除器、反光片、扩散片、准直透镜、复眼透镜、中继透镜、第一线偏振片、偏振分光片、LCOS芯片、第二线偏振片和投影镜头,激光光...
  • 本发明公开了一种投影设备,包括:激光器、成像系统和显示元件;激光器包括:多个激光芯片和位于激光芯片的出光侧的衍射光学元件;多个激光芯片出射的光束在衍射光学元件上形成多个光斑,衍射光学元件包括多个衍射单元,一个衍射单元对应一个光斑设置;成像系...
  • 本发明公开了一种光机及投影设备,该光机包括光源组件和光学镜组件,光源组件包括第一光源、第二光源和激光模组,光学镜组件包括第一二向色镜和第一反射镜,第一二向色镜位于第一反射镜和第二光源之间,第二光源、第一光源、激光模组分别位于第一二向色镜和第...
  • 本发明公开了一种基于数字媒体的多功能投影装置,包括壳罩、投影仪、以及吊架,包括:取换构件:所述壳罩的底部滑动设置有配合投影仪架放的架台,所述架板的内侧转动连接有折弯架,所述投影仪中形成有配合折弯架扣入的扣槽;防护构件:所述壳罩的前侧转动连接...
  • 本发明涉及多目像机技术领域,尤其是一种具有逆光增强功能的多目全景大模型摄像机,包括装置外壳,所述装置外壳内安装有多组相机装置,还包括:相机旋转角度调节组件,相机旋转角度调节组件包括保护面板,所述保护面板固定安装于所述装置外壳的外壁,所述保护...
  • 本发明提供反射型光掩模坯以及反射型光掩模的制造方法。提供反射型光掩模坯,其包括:基板、多层反射膜、保护膜和具有相移功能的吸光膜。所述吸光膜包含钌和铬并且不含氧和氮,并且具有5‑15at%的钌含量、85‑95at%的铬含量,40‑56nm的厚...
  • 本发明提供反射型光掩模坯以及反射型光掩模的制造方法。提供反射型光掩模坯,其包括:基板、多层反射膜、保护膜和具有相移功能的吸光膜。所述吸光膜包含钌和铬并且不含氧和氮,并且具有64‑74at%的钌含量、26‑36at%的铬含量,40‑44nm的...
  • 本公开涉及一种版图修正方法、版图修正系统、计算机设备和存储介质。该版图修正方法包括:获取设计版图,确定设计版图内待修正的目标图形;基于光刻光学模型获取光刻模型核函数;根据光刻模型核函数获取目标图形对应的晶圆表面光强振幅分布;根据晶圆表面光强...
  • 提供了一种掩模数据准备方法,包括:生成包括第一布局和第二布局的曝光级图案数据,其中,第一布局和第二布局跨第一曝光数据区域和第二曝光数据区域之间的边界线定位,第二曝光数据区域与第一曝光数据区域相邻;基于曝光级图案数据生成与第一布局相关联的第一...
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