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最新专利技术
  • 一种双槽保偏耦合器及耦合封装方法
    一种双槽保偏耦合器及耦合封装方法_上海傲世控制科技股份有限公司_202610168665.6
    本发明提供一种双槽保偏耦合器及耦合封装方法。双槽保偏耦合器包括耦合器组件和用于保护耦合器组件的封装壳体组件；耦合器组件包括铌酸锂光波导芯片、耦合设置于铌酸锂光波导芯片的输入侧的输入保偏尾纤以及耦合设置于铌酸锂光波导芯片的输出侧的双槽输出保偏...
    2026-05-11
  • 一种单端口输入/输出的多态可调波导模式转换器及其制备方法
    一种单端口输入/输出的多态可调波导模式转换器及其制备方法_无锡学院_202610465851.6
    本发明提供了一种单端口输入/输出的多态可调波导模式转换器及其制备方法，属于片上硅基聚合物混合集成波导型模式转换器技术领域。本发明采用双层MZI并行组合结构，通过在干涉臂的特定位置配置独立电极并施加相应的调制信号，实现对输入光场的精确调控。当...
    2026-05-11
  • 一种基于人工规范场与损耗联合调控的波导模式转换器
    一种基于人工规范场与损耗联合调控的波导模式转换器_湖北科技学院_202610390665.0
    本发明提供一种基于人工规范场与损耗联合调控的波导模式转换器，涉及集成光子学与光通信技术领域，该器件通过刻槽工程化的轨道角动量波导结构引入几何相位e±2iθ(其中θ为刻槽诱导的模式旋转角)，构造等效的人工规范场，产生的合成磁通量为Φ=2θ。利...
    2026-05-11
  • 偏振分束器-旋转器
    偏振分束器-旋转器_朗美通经营有限责任公司_202511402131.7
    本公开涉及偏振分束器‑旋转器。光子集成电路(PIC)可以包括偏振旋转器。偏振旋转器可以包括第一波导层，第一波导层包括第一组波导。第一组波导中的至少一个波导可以是分段波导。偏振旋转器可以包括第二波导层，第二波导层包括第二组波导。第二组波导的芯...
    2026-05-11
  • 一种变周期与渐变齿高的悬空式光栅耦合器
    一种变周期与渐变齿高的悬空式光栅耦合器_昆明理工大学_202610351799.1
    本发明涉及一种变周期与渐变齿高的悬空式光栅耦合器，属于集成光学与硅基光子学技术领域。包括自下而上设置的硅衬底层、二氧化硅埋氧层、光栅器件层以及二氧化硅上包层；整个光栅区域的齿高在光传播方向按照预设变化规律连续变化，并整体呈单调递增趋势；通过...
    2026-05-11
  • 衍射光波导装置及AR显示设备
    衍射光波导装置及AR显示设备_蓝思科技股份有限公司_202610207287.8
    本申请涉及显示设备技术领域，公开一种衍射光波导装置及AR显示设备。衍射光波导装置包括光波导基底和设置于光波导基底上的耦入区、转折区和耦出区，转折区由第一转折光栅子区和第二转折光栅子区组成，第二转折光栅子区位于第一转折光栅子区远离耦入区的一侧...
    2026-05-11
  • 一种基于三叉戟波导及亚波长光栅复合的低损耗边缘耦合结构
    一种基于三叉戟波导及亚波长光栅复合的低损耗边缘耦合结构_上海大学_202610104036.7
    本发明公开了一种基于三叉戟波导及亚波长光栅复合的低损耗边缘耦合结构，属于光电子集成领域；三叉戟波导由中间的中波导和两侧的边波导组成，每个边波导的外侧各有一段亚波长光栅，亚波长光栅和边波导的中轴线均向中心倾斜一定角度，两个边波导和两个亚波长光...
    2026-05-11
  • 一种片上集成互联结构
    一种片上集成互联结构_联光元和(上海)企业发展有限公司_202610451069.9
    本发明提供一种片上集成互联结构，包括集成在同一基板上的计算模块、围绕所述计算模块堆叠设置的若干光电共封装模块和粗波分复用器，所述计算模块与所述光电共封装模块通过重新布线层实现电互联，所述光电共封装模块与所述粗波分复用器通过聚合物波导实现光互...
    2026-05-11
  • 包括二维双各向异性亚波长光栅结构的光斑尺寸转换器
    包括二维双各向异性亚波长光栅结构的光斑尺寸转换器_朗美通经营有限责任公司_202511409842.7
    本公开涉及包括二维双各向异性亚波长光栅结构的光斑尺寸转换器。在一些实施方式中，一种光子集成电路(PIC)可以包括光斑尺寸转换器(SSC)。所述SSC可以包括具有沿着第一方向的长度和沿着第二方向的宽度的锥形波导。第一方向可以平行于传播方向，并...
    2026-05-11
  • 半导体结构及其形成方法
    半导体结构及其形成方法_北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司_202411571562.1
    本申请提供半导体结构及其形成方法，所述半导体结构包括：SO I衬底，所述SO I衬底包括底硅层、绝缘层和顶硅层，所述SO I衬底包括条形波导区域和脊型波导区域，所述SO I衬底表面形成有硬掩膜层；所述条形波导区域的顶硅层中形成有条形波导，所...
    2026-05-11
  • 半导体波导器件及其形成方法
    半导体波导器件及其形成方法_台湾积体电路制造股份有限公司_202512045183.X
    方法包括：对衬底实施第一蚀刻，其中，衬底包括依次布置的六个截面，以沿第一方向限定五个分区，其中，第一蚀刻形成从第一分区至第五分区延伸的第一突出区域以及位于第一突出区域的两侧上的两个第一连接区域；对两个第一连接区域实施第二蚀刻，以沿第六截面形...
    2026-05-11
  • 一种双螺旋结构多芯光纤光栅阵列及扭转测量方法
    一种双螺旋结构多芯光纤光栅阵列及扭转测量方法_峰澜科技(绍兴)有限公司_202610362201.9
    本发明公开了一种双螺旋结构多芯光纤光栅阵列及扭转测量方法。该阵列包含1+N+M根独立光纤，均刻有光栅并被涂覆层包裹成双层螺旋结构。内层由1根中心直光纤和N根沿第一方向盘绕的内螺旋光纤组成。外层由M根以相反方向盘绕的外螺旋光纤组成。本发明提供...
    2026-05-11
  • 新型准直高亮型背光模组
    新型准直高亮型背光模组_博晶科技(滁州)有限公司_202610271029.6
    本发明涉及半导体显示技术领域，具体涉及一种新型准直高亮型背光模组。该背光模组包括导光板、光源、反射膜片及设置于导光板出光面的光学叠层。所述导光板的出光面设有连续柱状曲面微结构，网点面设有按特定规律排布的三棱柱网点结构。本发明核心在于，所述光...
    2026-05-11
  • 绕射光学装置
    绕射光学装置_采钰科技股份有限公司_202510282235.2
    一种绕射光学装置包含波导、发光单元以及超颖表面。波导包含第一横向表面以及与第一横向表面相对的第二横向表面。发光单元直接接触波导的第一横向表面，并配置为发出具有初始发散角的光束，其中发光单元包含光源。超颖表面设置于波导的第二横向表面上，其中超...
    2026-05-11
  • 导光装置及近眼显示器
    导光装置及近眼显示器_中强光电股份有限公司_202411578866.0
    一种导光装置，包含导光板、绕射光栅以及相位延迟元件。绕射光栅配置于导光板的第一表面上。当光束入射绕射光栅，绕射光栅用于产生多个绕射光束。该些绕射光束包括主绕射光束，主绕射光束在导光板内传递。相位延迟元件配置于主绕射光束的传递路径上。主绕射光...
    2026-05-11
  • 一种光波导及近眼显示模组
    一种光波导及近眼显示模组_成都理想境界科技有限公司_202411567357.8
    本申请实施例公开了一种光波导及近眼显示模组，其中，光波导包括：波导基体，所述波导基体上至少设置有耦入区域及耦出区域，所述耦入区域及耦出区域的基底材料采用单轴晶体材料；所述单轴晶体材料中晶体的光轴被配置为：所述光波导中的单轴晶体材料的光轴角度...
    2026-05-11
  • 导光模组及显示面板
    导光模组及显示面板_苏州苏大维格科技集团股份有限公司_202411547416.5
    本申请提供一种导光模组及显示面板。该导光模组包括导光板，包括基板和设置于基板上的微结构层；其中，基板具有第一表面、相对于第一表面的第二表面、以及连接第一表面和第二表面的入光面，微结构层设于第一表面且包括多组光栅结构，不同组的光栅结构对应不同...
    2026-05-11
  • 一种抑制闪点型防眩光偏光片及制作方法和显示器件
    一种抑制闪点型防眩光偏光片及制作方法和显示器件_深圳市三利谱光电技术有限公司_202610317142.3
    一种抑制闪点型防眩光偏光片，包括从上向下依次叠加的第三保护膜、雾度功能胶黏剂层、第一保护膜、上侧第一胶黏剂层、偏光膜层、下侧第一胶黏剂层、第二保护膜、第二胶黏剂层、离型膜，雾度功能胶黏剂层包括扩散微粒和基质，扩散微粒均匀分布于基质内，扩散微...
    2026-05-11
  • 实现高效红光滤波与偏折的双功能超表面及其设计方法
    实现高效红光滤波与偏折的双功能超表面及其设计方法_长江大学_202610230910.1
    本发明公开了一种实现高效红光滤波与偏折的双功能超表面及其设计方法。所述双功能超表面将纳米腔与梯形超表面沿光传播方向自下而上进行集成；所述纳米腔由三层纳米薄膜堆叠构成：硅、二氧化硅、硅；所述梯形超表面则是在二氧化硅层上设置了梯形硅纳米阵列；基...
    2026-05-11
  • 一次刻蚀形成二元光栅结构的方法
    一次刻蚀形成二元光栅结构的方法_上海鲲游科技有限公司_202610347196.4
    本发明提供了一种一次刻蚀形成二元光栅结构的方法，包括：提供基底，基底包括：依序设置的第一光栅区域与第二光栅区域；在基底表面形成光栅膜层，且第一光栅区域上的光栅膜层的厚度大于第二光栅区域上的光栅膜层的厚度；在光栅膜层的表面形成掩膜层并图形化掩...
    2026-05-11
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