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五金工具产品及配附件制造技术
  • 一种特优钢棒材及其生产方法
    一种特优钢棒材及其生产方法_泸州鑫阳钒钛钢铁有限公司_202610019931.9
    本公开涉及钢材表面处理技术领域，具体为一种特优钢棒材及其生产方法；所述生产方法包括以下步骤：将钢棒材加热至1000℃‑1100℃并保持旋转；通过高压惰性气体载流将金属氮化物微粒喷吹至钢棒材表面，然后将钢棒材置于900℃‑950℃下保温；待钢...
    2026-04-14
  • 一种TGV微孔内镀膜系统
    一种TGV微孔内镀膜系统_金耀真空设备(中山)有限公司_202610074425.X
    本发明公开了一种TGV微孔内镀膜系统，包括有镀膜壳体，镀膜壳体连接有抽真空组件以及用于向镀膜壳体真空腔体注入工艺气体的工艺气体注入组件，镀膜壳体内腔设有磁控溅射镀膜阴极，磁控溅射镀膜阴极外侧面设有靶材，磁控溅射镀膜阴极连接有用于向磁控溅射镀...
    2026-04-14
  • 真空吸附装置及真空样品驱动系统
    真空吸附装置及真空样品驱动系统_费勉仪器科技(上海)有限公司_202310396282.0
    本公开提供了一种真空吸附装置及真空样品驱动系统，包括：主体，所述主体中空并且包括位于内侧的支承表面；以及一个或多个吸附板，所述吸附板设置在所述支承表面上，并且包括设置在表面上的吸附材料，用于吸附气体。真空样品驱动系统包括：驱动真空腔；样品架...
    2026-04-14
  • 一种氮化铝薄膜及其制备方法
    一种氮化铝薄膜及其制备方法_电子科技大学长三角研究院(湖州)_202311674317.9
    本发明公开了一种氮化铝薄膜及其制备方法，其制备方法包括以下步骤：取铝源，将其洗净备用；将洗净的铝源置于射频等离子体系统中，采用铵盐等离子体对铝源进行预处理；然后继续采用氮等离子体对铝源进行处理；处理结束后通入惰性气体，冷却至常温，制得。采用...
    2026-04-14
  • 半导体工艺腔体和半导体工艺设备
    半导体工艺腔体和半导体工艺设备_北京北方华创微电子装备有限公司_202511834757.5
    本申请提供了一种半导体工艺腔体和半导体工艺设备，涉及半导体制备技术领域，半导体工艺腔体包括腔体本体；内衬组件，设置在所述腔体本体内，所述内衬组件与所述腔体本体之间通过至少两个第一绝缘件连接，至少两个所述第一绝缘件沿所述腔体本体的周向分散布置...
    2026-04-14
  • 成膜装置
    成膜装置_芝浦机械电子装置株式会社_202310735009.6
    本发明提供一种可以简单的构成抑制电子零件的加热的成膜装置。本发明包括：腔室(20)，供溅射气体(G1)导入；成膜处理部(40)，设置于腔室(20)内，具有通过溅射而使成膜材料堆积来进行成膜的溅射源(4)，并且通过溅射源(4)而在腔室(20)...
    2026-04-14
  • 一种溅镀设备
    一种溅镀设备_深圳市鹏新旭技术有限公司_202511984870.1
    本发明提供了一种溅镀设备，涉及半导体制造技术领域。该溅镀设备包括腔体、两腔体侧壁、基座、靶材支撑座及调节装置；靶材支撑座通过所述调节装置与两腔体侧壁顶端连接，用于固定靶材；基座位于腔体内，用于承载晶圆，调节装置用于调整靶材支撑座以改变靶材朝...
    2026-04-14
  • 一种集成电路加工用的真空蒸发设备
    一种集成电路加工用的真空蒸发设备_汕头市欧跃科技有限公司_202310906837.1
    本发明公开了一种集成电路加工用的真空蒸发设备，涉及真空蒸发技术领域。该集成电路加工用的真空蒸发设备，包括箱体、滑门、加热器和抽气机，所述滑门滑动安装在箱体表面，所述加热器固定安装在箱体表面，所述抽气机固定安装在箱体表面，还包括夹紧装置、保护...
    2026-04-14
  • 一种高稳定性的锌锅稳定辊电动调整装置及方法
    一种高稳定性的锌锅稳定辊电动调整装置及方法_中国重型机械研究院股份公司_202511893009.4
    本发明涉及冶金设备中板带精整与处理设备技术领域，公开了一种高稳定性的锌锅稳定辊电动调整装置及方法。该装置包括沉没辊系统、稳定辊组件、电动调整执行系统、位置检测与反馈系统以及控制系统；所述电动调整执行系统包括至少两套对称布置的调整单元，所述调...
    2026-04-14
  • 一种真空热蒸发镀铝用舟
    一种真空热蒸发镀铝用舟_四川逸仙光伏产业创新中心有限公司_202520758495.8
    本实用新型涉及镀铝用舟领域，尤其涉及一种真空热蒸发镀铝用舟。包括金属基体，所述金属基体的上表面固定连接有上表面陶瓷，所述金属基体的下表面固定连接有下表面陶瓷，所述上表面陶瓷与下表面陶瓷相互远离的一侧均开设有凹槽，所述金属基体分为中间层和陶瓷...
    2026-04-14
  • 一种用于CVD法中有重力张紧辊的反应炉
    一种用于CVD法中有重力张紧辊的反应炉_江苏速升自动化装备股份有限公司_202520294028.4
    本实用新型公开了一种用于CVD法中有重力张紧辊的反应炉，其特征是所述的利用化学气相沉积法连续生产的卧式反应炉包括带式输送装置和炉体，安装在反应炉内的带式输送装置包括带和辊，带是CVD法制备沉积物的基底，带外包络辊，辊包括主动辊、被动辊和重力...
    2026-04-14
  • PBN容器及PBN容器的制造方法
    PBN容器及PBN容器的制造方法_信越化学工业株式会社_202510821519.4
    本发明涉及PBN容器及PBN容器的制造方法。本发明是一种PBN容器，具备 : 容器本体，由热分解氮化硼(PBN)的层叠体所构成；以及导电性膜，覆盖所述容器本体的表面，其特征是，当所述容器本体的层剖面、所述容器本体中接触该层剖面的内壁面或外壁...
    2026-04-14
  • 蒸镀设备、蒸镀系统和蒸镀设备的压力监测方法
    蒸镀设备、蒸镀系统和蒸镀设备的压力监测方法_上海升翕光电科技有限公司_202610282301.0
    本申请提供一种蒸镀设备、蒸镀系统和蒸镀设备的压力监测方法。蒸镀设备包括：蒸镀容器，蒸镀容器设有容纳腔以及与容纳腔连通的出料口，容纳腔用于容纳蒸镀材料；压力检测装置，压力检测装置设于容纳腔内，压力检测装置相对蒸镀容器可移动，压力检测装置用于采...
    2026-04-14
  • 一种晶圆处理设备的供气系统和晶圆处理设备
    一种晶圆处理设备的供气系统和晶圆处理设备_芯联越州集成电路制造(绍兴)有限公司_202520432639.0
    一种晶圆处理设备的供气系统和晶圆处理设备，晶圆处理设备包括至少一个用于容纳晶圆的反应腔，供气系统包括：用于储存反应气体的储气装置；以及，连接在储气装置与至少一个反应腔中的第一反应腔之间的连接管，其中，连接管上设置有用于加热通入连接管内的反应...
    2026-04-14
  • 一种电池片双面镀膜设备
    一种电池片双面镀膜设备_湖南红太阳光电科技有限公司_202610185853.X
    本发明公开了一种电池片双面镀膜设备，在反应腔体顶部设有可拆卸的盖板，内侧底部设有真空抽气组件；两组阴极匀气组件对称设置在盖板底部两侧，且阴极匀气组件的电极输入端贯穿盖板以连接至反应腔体外部的射频电源；阳极载具分别与两组阴极匀气组件绝缘搭接，...
    2026-04-14
  • 一种自适应抗氧化复合涂层及其制造方法
    一种自适应抗氧化复合涂层及其制造方法_上海核工程研究设计院股份有限公司_202511716189.9
    一种自适应抗氧化复合涂层及其制造方法，属于耐热涂层领域。该涂层包括基底层、形成层和保护层。其中，基底层为底层，其成分为纯Cr；形成层设置在基底层上，为晶态组织，成分含有Cr、Si、O；保护层为在形成层表面原位生成的非晶态SiO2层；形成层与...
    2026-04-14
  • 一种富含唾液酸化低聚糖的具有调节脑发育的乳粉及制备方法
    一种富含唾液酸化低聚糖的具有调节脑发育的乳粉及制备方法_东北农业大学_202610097775.8
    本发明公开了一种富含唾液酸化低聚糖的具有调节脑发育的乳粉及制备方法。本发明所述的唾液酸化低聚糖是3'‑唾液酸乳糖和6'‑唾液酸乳糖混合物。本发明还公开了富含唾液酸化低聚糖的具有调节脑发育的乳粉配方，包括以下重量份的成分：生牛乳620～720...
    2026-04-14
  • 组合物、通过使用其处理含金属的层的方法、和通过使用其制造半导体器件的方法
    组合物、通过使用其处理含金属的层的方法、和通过使用其制造半导体器件的方法_三星电子株式会社_202511377106.8
    提供组合物、通过使用其处理含金属的层的方法、和通过使用其制造半导体器件的方法，所述组合物包括氧化剂、基于铵的缓冲剂、和蚀刻控制剂，其中所述蚀刻控制剂包括由式1表示的化合物。式1的描述提供于说明书中。
    2026-04-14
  • 异质金属件焊接工艺及焊接金属结构
    异质金属件焊接工艺及焊接金属结构_广东省新兴激光等离子体技术研究院_202512054007.2
    本申请提供一种异质金属件焊接工艺及焊接金属结构，其中该工艺包括：分别获取需要焊接的至少两个金属件的结构参数及材料属性，其中，所述金属件采用不同金属材料制造；依据金属件的结构参数及材料属性确定需要材料改质的改质金属件与目标金属件；基于表面镀膜...
    2026-04-14
  • 一种8keV能点的多层膜反射镜及其制备方法
    一种8keV能点的多层膜反射镜及其制备方法_苏州宏策光电科技有限公司_202512050844.8
    本发明提供了一种8keV能点的多层膜反射镜及其制备方法，属于光学薄膜制造技术领域。本发明针对8keV这一能点，选择合适的W层和Si层材料，将遗传算法与膜层优化相结合进行膜系设计，使用磁控溅射设备，对设计的膜层进行制备。针对8keV这一领域进...
    2026-04-14
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