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最新专利技术
  • 一种基于散射自由程的自适应符合门宽优化量子成像方法
    一种基于散射自由程的自适应符合门宽优化量子成像方法_重庆邮电大学_202610094638.9
    本发明提出一种基于散射自由程的自适应符合门宽优化量子成像方法。首先，泵浦光泵浦PPKTP晶体经SPDC过程产生一对纠缠光子对；随后，利用PBS将其分离，分别沿参考光路和包含散射环境的信号光路传输，并由对应探测器采集光子到达时间序列；接着，基...
    2026-05-11
  • 一种外挂式相机自动调焦调光圈装置
    一种外挂式相机自动调焦调光圈装置_泉州信息工程学院_202610345364.6
    本发明公开了一种外挂式相机自动调焦调光圈装置，涉及相机配件的技术领域，解决了相机焦距和光圈调节存在的破坏相机壳体、通用性差、调节接触力不易控制等问题，包括固定组件、锁紧组件、支撑组件、调节组件、控制组件及遥控组件；固定组件配合锁紧组件实现外...
    2026-05-11
  • 相机机壳组件、机载相机及无人机
    相机机壳组件、机载相机及无人机_纬创资通股份有限公司_202411670543.4
    本发明提出一种相机机壳组件、机载相机及无人机。相机机壳组件包含一附接机构、一镜头承载件及一环形阻水件。镜头承载件可转动地设置于附接机构，附接机构及镜头承载件共同形成一马达容置空间、一环形阻水空间及一环形狭缝，环形阻水空间环绕马达容置空间，环...
    2026-05-11
  • 电子设备及其潜望摄像模组
    电子设备及其潜望摄像模组_宁波舜宇光电信息有限公司_202411553823.7
    本发明提供一种电子设备及其潜望摄像模组，其中所述潜望摄像模组的止动组件能够在所述潜望摄像模组的镜头组件的两个移动方向上均能实现良好止动、减震和减噪效果。
    2026-05-11
  • 车载相机
    车载相机_松下汽车电子系统株式会社_202511369762.3
    涉及一种车载相机。抑制来自除去第一透镜的雨滴、冻结等的加热器部的热直接扩散到热传导率高的金属制的镜筒。车载相机具备：具备至少包括第一和第二透镜的透镜的镜筒；摄像元件；电路基板；电路基板连接器；壳体及连接器。镜筒具有内侧面和外侧面。第一透镜具...
    2026-05-11
  • 照明系统及投影装置
    照明系统及投影装置_中强光电股份有限公司_202411563000.2
    本发明公开一种照明系统及投影装置。照明系统包含第一光源模块、第二光源模块以及第一分光元件。第一光源模块用以提供沿第一方向传递的第一光束。第二光源模块用以提供沿第二方向传递的第二光束。第一分光元件设置于第一光源模块与第二光源模块之间，第一分光...
    2026-05-11
  • 激光投影系统、激光散斑抑制方法及光学显示设备
    激光投影系统、激光散斑抑制方法及光学显示设备_歌尔光学科技有限公司_202511424049.4
    本申请实施例提供了一种激光投影系统、激光散斑抑制方法及光学显示设备；所述激光投影系统包括激光光源模块、主动式电调谐超表面器件、控制模块及成像模组；所述激光光源模块用于提供照明光束；所述主动式电调谐超表面器件设于所述激光光源模块的出光光路上，...
    2026-05-11
  • 车辆投影幕布装置、控制方法及其车辆
    车辆投影幕布装置、控制方法及其车辆_浙江极氪智能科技有限公司_202610175364.6
    本申请涉及车辆投影技术领域，特别是涉及车辆投影幕布装置、控制方法及其车辆。一种车辆投影幕布装置，包括盒体、卷管、幕布、传动机构以及离合器，所述卷管安装于所述盒体内，所述幕布卷收于所述卷管，所述离合器设置于所述盒体内并与所述卷管之间通过所述传...
    2026-05-11
  • 光罩图形的修正方法、装置、电子设备、存储介质和程序产品
    光罩图形的修正方法、装置、电子设备、存储介质和程序产品_成都新紫光半导体科技有限公司_202411562122.X
    本公开涉及一种光罩图形的修正方法、装置、电子设备、存储介质和程序产品；光罩图形的修正方法，包括：获取原始光罩图形，所述原始光罩图形中包括目标区域，所述目标区域为对光罩限制存在影响的区域；对所述原始光罩图形进行光学邻近效应修正，得到修正后的光...
    2026-05-11
  • SEM图像轮廓提取方法、系统及终端
    SEM图像轮廓提取方法、系统及终端_华芯程(上海)科技有限公司_202610066340.7
    本申请提供一种SEM图像轮廓提取方法、系统及终端，通过根据SEM图像分别提取待测晶圆中待量测图形的外轮廓线以及内轮廓线，并根据待量测图形的不同性质，选择外轮廓线或内轮廓线作为待量测图形的初始轮廓线，以根据电子扫描显微镜机台输出的关键尺寸机台...
    2026-05-11
  • 掩膜版、套刻误差量测方法、装置及套刻设备
    掩膜版、套刻误差量测方法、装置及套刻设备_成都新紫光半导体科技有限公司_202411562105.6
    本公开涉及一种掩膜版、套刻误差量测方法、装置及套刻设备；掩膜版，包括：掩膜版本体；设置在所述掩膜版本体上的多个套刻标记，各个所述套刻标记包括多个套刻子标记，所述多个套刻子标记包括中心点位于同一直线上的套刻子标记、中心点相同的套刻子标记和设置...
    2026-05-11
  • 一种FPD领域替代HTM的BIM掩膜版制备方法
    一种FPD领域替代HTM的BIM掩膜版制备方法_天津华大九天科技有限公司_202610401144.0
    本申请提供一种FPD领域替代HTM的BIM掩膜版制备方法，应用于OLED制造中像素界定层PDL和支撑柱PS的一次图形化成型工艺，包括：以二元掩膜版BIM为基底，确定掩膜版的不透光区域和全透光区域：将对应PS结构的区域设为不透光区域，透过率为...
    2026-05-11
  • 一种KrF光刻胶组合物及其制备方法
    一种KrF光刻胶组合物及其制备方法_万华化学集团股份有限公司_202411556247.1
    本发明涉及光刻胶技术领域，具体公开了一种KrF光刻胶组合物及其制备方法。KrF光刻胶组合物包括：KrF树脂、有机碱、表面活性剂、光致产酸剂、有机溶剂；其中，所述KrF树脂由具有A‑D结构通式的四种单体共聚制得；具体制备方法包括以下步骤：按配...
    2026-05-11
  • 用于定向自组装的组合物及图案化的方法
    用于定向自组装的组合物及图案化的方法_长鑫科技集团股份有限公司_202411590288.2
    本公开实施例涉及一种用于定向自组装的组合物及图案化的方法，该定向自组装的组合物包括嵌段共聚物，光致酸发生剂以及溶剂，通过形成由嵌段共聚物、光致酸发生剂以及溶剂构成的组合物，由于形成嵌段共聚物的第一均聚物和第二均聚物之间通过可酸裂解的缩醛键合...
    2026-05-11
  • 核-壳化合物、感光性树脂组合物和层、滤色器和传感器
    核-壳化合物、感光性树脂组合物和层、滤色器和传感器_三星SDI株式会社_202511302255.8
    提供一种核‑壳化合物、包含所述核‑壳化合物的感光性树脂组合物、使用所述感光性树脂组合物制造的感光性树脂层、包括所述感光性树脂层的滤色器、以及包括所述滤色器的互补金属氧化物半导体图像传感器，所述核‑壳化合物包括由化学式1表示的核和包围所述核的...
    2026-05-11
  • 半导体光刻胶组成物及使用组成物形成图案的方法
    半导体光刻胶组成物及使用组成物形成图案的方法_三星SDI株式会社_202511575928.7
    本发明提供一种半导体光刻胶组成物及使用半导体光刻胶组成物形成图案的方法。半导体光刻胶组成物包括有机金属化合物、由化学式1表示的羧酸化合物；以及溶剂。化学式1
    2026-05-11
  • 半导体光刻胶组合物及使用所述组合物形成图案的方法
    半导体光刻胶组合物及使用所述组合物形成图案的方法_三星SDI株式会社_202511608910.2
    公开一种半导体光刻胶组合物及利用所述半导体光刻胶组合物来形成或提供图案的方法。所述半导体光刻胶组合物可包含由化学式1表示的有机金属化合物、以及溶剂。
    2026-05-11
  • 半导体光刻胶组合物和使用其形成图案的方法
    半导体光刻胶组合物和使用其形成图案的方法_三星SDI株式会社_202511614954.6
    提供一种半导体光刻胶组合物和使用其形成图案的方法。所述半导体光刻胶组合物包含：有机金属化合物；包括由化学式M‑1表示的第一结构单元和由化学式2或化学式3表示的第二结构单元的聚合物；以及溶剂。对化学式M‑1、化学式2和化学式3的说明如在说明书...
    2026-05-11
  • 具有悬浮材料的可膨胀负型光阻以及使用可膨胀负型光阻减少间隔物氧化物中的喇叭形状的方法
    具有悬浮材料的可膨胀负型光阻以及使用可膨胀负型光阻减少间隔物氧化物中的喇叭形状的方法_南亚科技股份有限公司_202510807598.3
    本发明发明一种可膨胀负型光阻以及利用此可膨胀负型光阻调整间隔物氧化物剖面轮廓的方法。该可膨胀负型光阻包括一高分子材料、一悬浮材料及一光致酸产生剂。该悬浮材料包含多个可膨胀分子。
    2026-05-11
  • 光刻方法及光刻结构
    光刻方法及光刻结构_成都新紫光半导体科技有限公司_202411562130.4
    本公开涉及一种光刻方法及光刻结构，该光刻方法包括：在基板的上方依次形成第一抗反射涂层、第二抗反射涂层和光刻胶层；其中，第一抗反射涂层为可显影的抗反射涂层；图形化光刻胶层，并利用图形化的光刻胶层刻蚀第二抗反射涂层；利用显影工艺和图形化的光刻胶...
    2026-05-11
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