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龙图腾网获悉深圳市鑫德普科技有限公司申请的专利碳化硅抛光液及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121873687B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610345064.8，技术领域涉及：C09G1/02；该发明授权碳化硅抛光液及其制备方法是由阚开乐;柯秀裕;曹飞龙设计研发完成，并于2026-03-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本碳化硅抛光液及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种碳化硅抛光液及其制备方法，涉及半导体抛光材料技术领域。所述碳化硅抛光液包括磨料1~20份、氧化剂0.01~5份、pH调节剂0.01~0.5份以及85~95份水；其中，所述磨料包括第一磨料和第二磨料，所述第一磨料包括氧化铝、氧化锆中的至少一种，所述第二磨料为木质素氧化石墨烯纳米氧化硅复合微球。本发明提供的碳化硅抛光液通过引入木质素氧化石墨烯纳米氧化硅复合微球，能够解决常规碳化硅抛光液因使用多种磨料出现的易团聚、沉降的问题，提高了抛光液的稳定性，同时还提高了抛光液的去除效率，改善了工件在加工后的表面质量。

本发明授权碳化硅抛光液及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种碳化硅抛光液，其特征在于，按质量份数计，包括以下组分：磨料1~20份、氧化剂0.01~5份、pH调节剂0.01~0.5份以及85~95份水；其中： 所述磨料包括第一磨料和第二磨料，所述第一磨料包括氧化铝、氧化锆中的至少一种，所述第二磨料为木质素氧化石墨烯纳米氧化硅复合微球；所述第一磨料的粒径为0.6μm~1.2μm，所述第二磨料的粒径范围为200nm~500nm，所述第一磨料和第二磨料的质量比为3~10：1； 所述第二磨料的制备方法包括以下步骤： 将硫酸盐木质素、N,N-二甲基甲酰胺和水混合，得到木质素溶液； 将氧化石墨烯分散于乙醇中，得到氧化石墨烯分散液； 将纳米二氧化硅、十二烷基苯磺酸钠和苯氨基甲基三甲氧基硅烷分散于乙醇中，得到改性纳米二氧化硅分散液； 将所述木质素溶液进行搅拌，在维持搅拌的条件下将所述氧化石墨烯分散液和所述改性纳米二氧化硅分散液滴加到所述木质素溶液中以得到自组装产物，将所述自组装产物进行透析、干燥，得到第二磨料； 所述N,N-二甲基甲酰胺和水的体积比为7：3~9：1，所述硫酸盐木质素在所述木质素溶液中的质量占比为15%~30%，所述硫酸盐木质素与氧化石墨烯的质量比为1~4：1，所述硫酸盐木质素与纳米二氧化硅的质量比为1：1.2~2，所述纳米二氧化硅、十二烷基苯磺酸钠和苯氨基甲基三甲氧基硅烷的质量比为10~20：10：10。

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