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龙图腾网获悉华侨大学申请的专利基于高斯泼溅的核磁共振被动匀场模块设计方法及装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121831643B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610303588.0，技术领域涉及：G01R33/387；该发明授权基于高斯泼溅的核磁共振被动匀场模块设计方法及装置是由姚凯文;张宇星;姚斌;吴琳;张以拙设计研发完成，并于2026-03-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于高斯泼溅的核磁共振被动匀场模块设计方法及装置在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于高斯泼溅的核磁共振被动匀场模块设计方法及装置，涉及精密电磁场优化技术领域，包括：在被动匀场模块的设计域内进行初始化，得到所有高斯泼溅粒子的初始的参数集合；构建每个高斯泼溅粒子的等效磁矩与磁化权重因子、磁性材料的本征磁化强度和缩放向量之间的映射关系并构建磁场强度计算模型；将所有高斯泼溅粒子的初始的参数集合和真实磁场强度输入到高斯泼溅粒子参数集合迭代优化算法中，通过磁场强度计算模型计算预测磁场强度；基于预测磁场强度、真实磁场强度、磁化权重因子向量和中心位置向量构建多目标损失函数并迭代优化，得到优化后的参数集合并制作出被动匀场模块。本发明解决补偿复杂形貌磁场精度与效率低的问题。

本发明授权基于高斯泼溅的核磁共振被动匀场模块设计方法及装置在权利要求书中公布了：1.一种基于高斯泼溅的核磁共振被动匀场模块设计方法，其特征在于，包括以下步骤： 在被动匀场模块的设计域内随机初始化生成若干高斯泼溅粒子，并构建所有高斯泼溅粒子的初始的参数集合，所述参数集合包括磁化权重因子向量、中心位置向量、旋转四元数矩阵和缩放矩阵； 针对被动匀场模块的设计域内填充的每一种磁性材料，构建每个高斯泼溅粒子的等效磁矩与磁化权重因子、磁性材料对应的本征磁化强度和缩放向量之间的映射关系，所述映射关系的构建过程如下： 在所述设计域中，计算目标磁场区域中的每个采样点相对于每个高斯泼溅粒子的中心位置的相对位移，并结合每个高斯泼溅粒子的缩放向量计算得到空间占比，如下式所示： ； 其中，表示其中一个高斯泼溅粒子在目标磁场区域中的采样点的位置处的空间占比，表示目标磁场区域中的任意一个采样点的位置，和分别表示目标磁场区域中的采样点的位置与其中一个高斯泼溅粒子的中心位置在x轴、y轴和z轴的相对位置，、和分别表示其中一个高斯泼溅粒子在x轴、y轴和z轴的缩放量； 将N个高斯泼溅粒子的磁化贡献在所述设计域内进行线性叠加，构建得到目标磁场区域中的其中一个采样点的磁化强度，如下式所示： ； 其中，表示目标磁场区域中的采样点的位置的磁化强度，表示第i个高斯泼溅粒子的峰值磁化强度，N表示高斯泼溅粒子的总数； 利用高斯函数的解析特性，将连续分布的磁化强度对体积进行积分，离散得到每个高斯泼溅粒子的等效磁矩，如下式所示： ； 其中，表示第i个高斯泼溅粒子的等效磁矩，V表示体积，表示第i个高斯泼溅粒子在目标磁场区域中的磁化强度； 将所述第i个高斯泼溅粒子的峰值磁化强度分解为第i个高斯泼溅粒子的磁化权重因子与材料对应的本征磁化强度的乘积，则所述映射关系定义为： ； 其中，表示第i个高斯泼溅粒子的磁化权重因子，表示与磁性材料相关的本征磁化强度；基于可微形式的毕奥-萨伐尔定律构建磁场强度计算模型； 选择被动匀场模块的设计域内需要填充的磁性材料，将所有高斯泼溅粒子的初始的参数集合和真实磁场强度输入到高斯泼溅粒子参数集合迭代优化算法中并参与第一次迭代优化过程中，根据前一次迭代优化过程得到的磁化权重因子向量、缩放矩阵、磁性材料对应的本征磁化强度和所述映射关系确定所有高斯泼溅粒子的等效磁矩向量，将所述等效磁矩向量、磁化权重因子向量、中心位置向量和旋转四元数矩阵输入到所述磁场强度计算模型，得到目标磁场区域中的每个采样点的预测磁场强度；基于所述目标磁场区域中的每个采样点的预测磁场强度、真实磁场强度、磁化权重因子向量和中心位置向量构建多目标损失函数，基于所述多目标损失函数对所述前一次迭代优化过程得到的参数集合进行更新，得到当前次迭代优化过程得到的参数集合，重复以上迭代优化过程直至达到最大迭代次数，得到优化后的参数集合； 基于所述优化后的参数集合和需要填充的磁性材料进行实体化处理，制作出对应的被动匀场模块。

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