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龙图腾网获悉山东大学申请的专利基于匀化光纤的激光辅助化学机械抛光装置及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121670515B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610180838.6，技术领域涉及：B24B37/10；该发明授权基于匀化光纤的激光辅助化学机械抛光装置及方法是由张百涛;孙云辉;姚勇平;聂鸿坤;李佳桐;姚波;夏金宝;梁润泽设计研发完成，并于2026-02-09向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于匀化光纤的激光辅助化学机械抛光装置及方法在说明书摘要公布了：本发明属于半导体材料激光加工技术领域。提出了一种基于匀化光纤的激光辅助化学机械抛光装置及方法，包括激光发生器、光路设计单元、扫描振镜、精抛光单元及二维运动平台；光路设计单元通过匀化光纤对脉冲激光匀化整形，获得方形平顶光斑，扫描振镜与二维运动平台协同控制实现光斑紧密排列。方法通过匹配平台移动速度、晶圆尺寸与光斑大小确定振镜扫描参数，使晶圆与抛光盘形成相对运动，激光粗加工与精抛光同步进行，且抛光液滴入不影响激光加工。本发明解决传统化学机械抛光效率低、工序割裂、加工一致性差等问题，单次扫描等效传统多次扫描效果，大幅缩短加工耗时，提升加工效率与表面均匀性，适用于大尺寸SiC晶圆超光滑无损伤抛光。

本发明授权基于匀化光纤的激光辅助化学机械抛光装置及方法在权利要求书中公布了：1.一种基于匀化光纤的激光辅助化学机械抛光方法，其特征在于，利用基于匀化光纤的激光辅助化学机械抛光装置，所述装置包括激光发生器、光路设计单元、扫描振镜、精抛光单元和二维运动平台； 所述激光发生器，用于产生脉冲激光； 所述光路设计单元，用于通过匀化光纤对脉冲激光进行匀化整形，得到方形平顶光斑； 所述扫描振镜，用于控制激光的扫描速度和扫描路径，完成对晶圆的扫描加工； 所述精抛光单元，用于精抛光激光扫描后的晶圆，形成高质量的抛光面； 所述二维运动平台，用于承载晶圆并控制晶圆与抛光盘进行相对运动，所述二维运动平台还用于调整晶圆与所述精抛光单元之间的相对位置； 所述方法包括以下过程： 依据二维运动平台的移动速度、晶圆的尺寸、焦点处方形平顶光斑的大小，确定扫描振镜的扫描速度和扫描长度； 采用二维运动平台承载晶圆，以与抛光盘和扫描振镜形成相对运动，抛光盘的抛光工序和扫描振镜的激光加工工序之间滴入抛光液，经匀化光纤整形之后的方形平顶光斑在扫描振镜和二维运动平台的协同控制下紧密排列，形成均匀加工； 其中，所述二维运动平台移动速度： ； 其中，代表二维运动平台移动速度mms，二维运动平台沿Y向的匀速移动速度；代表扫描振镜扫描速度mms，扫描振镜沿X向的扫描线速度；代表方形平顶光斑边长mm；代表目标光斑有效重叠率；代表振镜单次扫描线长度mm，即晶圆有效加工区X向长度； 通过控制抛光盘相对于激光扫描中心的滞后距离实现激光加工与抛光的同步，所述抛光盘相对于激光扫描中心的滞后距离确定方式： ； 其中，代表抛光盘相对于激光扫描中心的滞后距离mm，即激光扫描中心与抛光盘加工中心的Y向距离；代表二维运动平台移动速度mms；代表激光改性层稳定时间s，即SiC材料经激光加工后形成稳定改性层的时间；代表抛光液扩散系数mmsN，由抛光液粘度和表面张力决定；代表抛光液运动粘度mm2s；代表每平方毫米晶圆上抛光盘施加的压力Nmm2； 通过二维运动平台控制晶圆与抛光盘进行相对运动，在预设的行进路线上完成对晶圆的加工。

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