河南微纳半导体科技有限公司喻兰获国家专利权
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龙图腾网获悉河南微纳半导体科技有限公司申请的专利一种适用于高精度光刻的掩模版支撑装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224216991U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-08发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520764814.6，技术领域涉及：G03F7/20；该实用新型一种适用于高精度光刻的掩模版支撑装置是由喻兰;杨珂;金旭雅设计研发完成，并于2025-04-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种适用于高精度光刻的掩模版支撑装置在说明书摘要公布了：本实用新型涉及模版支撑装置技术领域，提供一种适用于高精度光刻的掩模版支撑装置，包括底座和支撑座；所述底座的上方设置有支撑座，所述支撑座的顶端均匀开设有限位结构。本实用新型通过设置有限位结构，夹持块通过限位块在滑槽的内部滑动，并使得夹持块在滑槽的内部不易产生位置偏移，且便于通过启动夹持电动推杆使得其推动夹持块在滑槽的内部移动，进而使得夹持块对掩模版进行限位并使得橡胶垫起到缓冲防护效果，从而达到了便于对掩模版进行夹持限位的目的。
本实用新型一种适用于高精度光刻的掩模版支撑装置在权利要求书中公布了：1.一种适用于高精度光刻的掩模版支撑装置，包括底座1和支撑座2； 其特征在于： 所述底座1的上方设置有支撑座2，所述支撑座2的顶端均匀开设有限位结构3； 所述限位结构3包括均匀开设于支撑座2顶端的滑槽301，所述滑槽301的内部均设置有夹持块302，所述夹持块302的一侧均安装有夹持电动推杆303，所述夹持块302底部的两侧均固定有限位块304，所述夹持块302顶部的一侧均设置有橡胶垫305； 所述底座1的顶端均匀安装有调节结构4。
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