上海芬创信息科技有限公司曾志超获国家专利权
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龙图腾网获悉上海芬创信息科技有限公司申请的专利反射面形的单次绝对测量系统及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121829999B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610291849.1，技术领域涉及：G01M11/02；该发明授权反射面形的单次绝对测量系统及方法是由曾志超;张岚设计研发完成，并于2026-03-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本反射面形的单次绝对测量系统及方法在说明书摘要公布了：本发明涉及光学检测技术领域，公开了反射面形的单次绝对测量系统及方法，该系统包括频谱分离单元、波前测量采集单元和面形恢复单元；频谱分离单元将光源发射的光束划分为参考光束和测试光束，利用分束光楔为测试光束叠加线性相位载频并投射至被测反射镜；波前测量采集单元接收参考光束和反射回的测试光束，通过棋盘光栅进行二维剪切，由光电探测器记录单次曝光的横向剪切干涉图；面形恢复单元对干涉图执行频域解调，截取一阶频谱分量获取解调复振幅，通过共轭相乘运算消除系统共路误差，提取绝对相位梯度场，并构建泊松方程计算被测反射镜的绝对面形高度分布。本发明无需多步移相，降低了环境敏感度，简化了光学结构并减小了系统测量误差。
本发明授权反射面形的单次绝对测量系统及方法在权利要求书中公布了：1.反射面形的单次绝对测量系统，其特征在于，包括： 频谱分离单元10，其用于发射单色准直光束，并将所述单色准直光束划分为参考光束和测试光束，利用分束处理为所述测试光束叠加线性相位载频，并将携带所述线性相位载频的所述测试光束投射至被测反射镜4； 波前测量采集单元20，其用于接收所述参考光束以及经由所述被测反射镜4反射回的所述测试光束，通过空间衍射对所述参考光束和所述测试光束进行二维剪切，形成多波横向剪切干涉场，并记录单次曝光状态下的横向剪切干涉图； 面形恢复单元30，其用于获取所述波前测量采集单元20输出的所述横向剪切干涉图，通过频域解调算法分别提取所述参考光束和所述测试光束的相位信息，通过相位减法消除系统共路误差，获取所述被测反射镜4在相互正交方向上的两个相位梯度场，并构建泊松方程计算所述被测反射镜4的绝对面形高度分布。
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