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龙图腾网获悉中国科学院上海高等研究院申请的专利纳米结构的表面轮廓测量方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121540094B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610078386.0，技术领域涉及：G01B15/04；该发明授权纳米结构的表面轮廓测量方法是由潘楠;杨春明;边风刚;秦旭阳;高鑫豪;洪春霞;黄宇营设计研发完成，并于2026-01-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本纳米结构的表面轮廓测量方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种纳米结构的表面轮廓测量方法，其包括以下步骤：S100：构建目标纳米结构的散射强度计算模型，所述散射强度计算模型包括用于描述表面轮廓的关键结构参数；S200：对具有所述目标纳米结构的样品进行小角X射线散射实验，以得到所述目标纳米结构的散射实验数据；S300：利用所述散射实验数据对所述散射强度计算模型进行拟合，以得到目标纳米结构的关键结构参数。本发明的纳米结构的表面轮廓测量方法，无需复杂样品预处理，兼具非破坏性、高效率与高准确性，为半导体制造领域纳米结构的高精度计量提供了全新技术方案。

本发明授权纳米结构的表面轮廓测量方法在权利要求书中公布了：1.一种纳米结构的表面轮廓测量方法，其特征在于，包括以下步骤： S100：构建目标纳米结构的散射强度计算模型，所述散射强度计算模型包括用于描述表面轮廓的关键结构参数； S200：对具有所述目标纳米结构的样品进行小角X射线散射实验，以得到所述目标纳米结构的散射实验数据； S300：利用所述散射实验数据对所述散射强度计算模型进行拟合，以得到目标纳米结构的关键结构参数； 步骤S100具体包括以下步骤： S110：建立所述目标纳米结构的结构模型，所述结构模型由多边形单元沿水平方向和垂直方向多次平移形成，所述多边形单元由多个正方形的散射单元拼接而成，所述多边形单元包括依次首尾连接的第一边、第二边、第三边、第四边、第五边和第六边，所述第一边、所述第三边和所述第五边均与水平方向平行，所述第二边、所述第四边和所述第六边均与垂直方向平行；所述第一边的长度为a×L0，所述第二边的长度为m×L0，所述第三边的长度为n×L0，所述第四边的长度为m-b×L0，所述第五边的长度为a-n×L0，所述第六边的长度为b×L0；其中，L0为所述散射单元的边长，a为所述第一边的边长系数，m为所述第二边的边长系数，n为所述第三边的边长系数，b为所述第六边的边长系数；所述关键结构参数包括a、b、m、n和X； S120：基于运动学衍射理论，确定所述散射单元的形状因子； S130：基于所述目标纳米结构的结构模型和所述散射单元的形状因子确定所述多边形单元的散射强度； S140：基于所述目标纳米结构的周期性确定结构因子； S150：基于所述结构因子和所述多边形单元的散射强度确定所述目标纳米结构的散射强度计算模型； 所述散射单元的形状因子满足如下关系式： ， ， ， ， 其中，f0为所述散射单元的形状因子，q为散射矢量，|q|为所述散射矢量的模，qx、qy分别为所述散射矢量在水平方向和垂直方向的分量，θ小角X射线散射实验时的散射角的一半，λ为小角X射线散射实验时的X射线的波长，α为样品的旋转角度； 所述多边形单元的散射强度满足如下关系式： ， ， ， ， 其中，为多边形单元的散射强度，为以第一边和第六边为长和宽的矩形的散射强度，为以第二边和第三边为长和宽的矩形的散射强度，为以第三边和第六边为长和宽的矩形的散射强度，N是散射单元的序号； 所述结构因子满足如下关系式： ， 其中，S为所述结构因子，X为所述目标纳米结构在水平方向的周期，Y为所述目标纳米结构在垂直方向的周期，δ为狄拉克函数，j为水平方向的衍射级次指标，k为垂直方向的衍射级次指标； 所述目标纳米结构的散射强度计算模型满足如下关系式： I=×S， 其中，I为所述目标纳米结构的散射强度。

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