中芯国际集成电路制造(上海)有限公司倪昶获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!
龙图腾网获悉中芯国际集成电路制造(上海)有限公司申请的专利光学邻近修正方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116413993B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-08发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202111678910.1,技术领域涉及:G03F1/36;该发明授权光学邻近修正方法是由倪昶;郝文琴设计研发完成,并于2021-12-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学邻近修正方法在说明书摘要公布了:一种光学临近修正方法,包括:提供修正版图,包括若干修正图形;根据修正版图获取曝光版图,包括若干第一曝光图形;采用若干次采样步骤在第一曝光图形的轮廓上依此获取若干采样点以形成采样图形,第i次采样步骤包括:在第一曝光图形的轮廓上获取第i采样点;在第一曝光图形对应的修正图形上获取第L位置点,第L位置点与第i采样点对应;获取第i采样点的曲率;获取第i采样点与第L位置点之间的第一偏移量;获取修正图形在第L‑1位置点和第L位置点之间的第二偏移量,第L‑1位置点与第i‑1采样点对应;根据第i采样点的曲率、第一偏移量和第二偏移量获取第i+1采样步长;根据第i+1采样步长在第一曝光图形上获取第i+1采样点。所述方法预测精度提高。
本发明授权光学邻近修正方法在权利要求书中公布了:1.一种光学邻近修正方法,其特征在于,包括: 提供修正版图,所述修正版图包括若干修正图形,所述修正图形沿第一方向延伸; 根据所述修正版图获取曝光版图,所述曝光版图包括若干与修正图形对应的第一曝光图形; 采用若干次采样步骤在所述第一曝光图形的轮廓上依此获取若干采样点以形成采样图形,相邻所述采样点之间具有分割段,第i次所述采样步骤包括: 在所述第一曝光图形的轮廓上获取第i采样点; 在所述第一曝光图形对应的修正图形上获取第L位置点,所述第L位置点与所述第i采样点对应; 获取第i采样点的曲率; 获取第i采样点与第L位置点之间的第一偏移量; 获取修正图形在第L-1位置点和第L位置点之间的轮廓线的第二偏移量,所述第L-1位置点与第一曝光图形上的第i-1采样点对应; 根据第i采样点的曲率、第一偏移量和第二偏移量获取第i+1采样步长,包括:获取第一权重、第二权重和第三权重;根据第一权重、第二权重、第三权重、第i采样点的曲率、第一偏移量和第二偏移量获取所述采样步长,其中,为第i采样点与第L位置点之间的第一偏移量,为修正图形在第L-1位置点和第L位置点之间的轮廓线的第二偏移量,为第i采样点的曲率,为图形设计规则的最小尺寸,N为可调节的变量,i为大于0的自然数,L的取值与i的取值相同,为第一权重,为第二权重,为第三权重, 第一权重,其中,Mmax为修正图形在第二方向上的最大尺寸,所述第二方向与第一方向垂直,Mmin为修正图形在第二方向上的最小尺寸,第三权重w3=0.2w1, 第二权重,其中,Curmax为曝光版图中第一曝光图形轮廓的最大曲率; 根据第i+1采样步长在所述第一曝光图形的轮廓上获取第i+1采样点。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,其通讯地址为:201203 上海市浦东新区张江路18号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议,有机会获取IP积分或其他奖励