卡尔蔡司SMT有限责任公司A.帕齐迪斯获国家专利权
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龙图腾网获悉卡尔蔡司SMT有限责任公司申请的专利具有氢阻挡件的反射镜装配件和光学装配件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114341740B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080061830.9，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权具有氢阻挡件的反射镜装配件和光学装配件是由A.帕齐迪斯;K.希尔德;T.波拉克;M.诺亚;J.纳瑟;D.克莱因亨兹设计研发完成，并于2020-07-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本具有氢阻挡件的反射镜装配件和光学装配件在说明书摘要公布了：本发明涉及一种反射镜装配件30，其包括：基板31，其具有正面31a和背面31b，正面31a具有用于反射辐射5的反射镜表面32a并且背面31b背对正面31a；以及至少一个致动器27，用于产生反射镜表面32a的变形。至少一个致动器27固定在基板31的背面31b，并且反射镜装配件30具有氢阻挡件38，氢阻挡件38被设计为保护基板31的背面31b上——特别是在至少一个致动器27上——的氢敏感材料M免受来自反射镜装配件30的环境的氢的影响。本发明还涉及光学装配件，特别是EUV光刻装置1，其包括这类的反射镜装配件30。
本发明授权具有氢阻挡件的反射镜装配件和光学装配件在权利要求书中公布了：1.一种反射镜布置30，包括： 基板31，其具有正面31a和背面31b，所述正面31a具有用于反射辐射5的反射镜面32a并且所述背面31b背对所述正面31a，以及 至少一个致动器27，用于产生所述反射镜面32a的变形， 其特征在于， 所述至少一个致动器27固定在所述基板31的背面31b上，并且所述反射镜布置30具有氢阻挡件38，所述氢阻挡件被配置为保护所述基板31的背面31b上的氢敏感材料M免受来自所述反射镜布置30的周围环境36的氢37的攻击，其中，所述至少一个致动器27通过粘合层33固定在所述基板31的背面31a上， 其中，所述氢阻挡件38的面向所述周围环境36的表面41a，44a是疏水的和或所述氢阻挡件38包括至少一个疏水材料，以及 其中，形成在所述致动器之间的空隙中的连续的粘合层33的暴露的表面区域33a-c由所述氢阻挡件38保护免受氢37的攻击。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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