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龙图腾网获悉浙江众凌科技有限公司申请的专利金属掩膜版的蚀刻方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121295180B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511862802.8，技术领域涉及：C23F1/02；该发明授权金属掩膜版的蚀刻方法是由胡清渊;徐华伟;龚月良;蔡俊飞;叶大成;冯志恒设计研发完成，并于2025-12-11向国家知识产权局提交的专利申请。

本金属掩膜版的蚀刻方法在说明书摘要公布了：本申请提供了一种金属掩膜版的蚀刻方法，用于在基材的第一表面形成大孔，具体步骤包括：在基材的第一表面形成第一开口，在第一开口的表面形成厚度逐渐变化的氧化膜，对第一开口进行蚀刻，以形成大孔，大孔的开口角度在40°~65°范围内。本申请中通过形成厚度逐渐变化的氧化膜，实现了对侧壁蚀刻轮廓的主动与精确控制，以在金属掩膜版的第一表面形成具有极高的蚀刻因子与垂直度的大孔，打孔的侧蚀量减少，蚀刻因子大幅度提升，大孔的开口角度在40°~65°范围内。另外，采用本申请的技术方案，提升蚀刻因子后，显著提升了高解析度金属掩模版的抗折伤能力，降低因折伤导致的生产不良。

本发明授权金属掩膜版的蚀刻方法在权利要求书中公布了：1.一种金属掩膜版的蚀刻方法，其特征在于，通过以下步骤在基材的第一表面形成大孔： S1，在所述基材的所述第一表面形成第一开口； S2，在所述第一开口的表面形成厚度逐渐变化的氧化膜；由所述第一开口的两个侧壁渐变至所述第一开口的底壁中央的过程中，所述氧化膜的厚度逐渐减小； S3，对所述第一开口进行蚀刻，以形成所述大孔，所述大孔的开口角度在40°~65°范围内； 所述氧化膜的形成过程包括： S201，将形成有所述第一开口的所述基材浸泡在第一工作槽中，并使所述基材的表面与具有第一浓度的酸性溶液充分接触，所述第一工作槽中容纳所述具有第一浓度的酸性溶液； S202，将浸泡在所述第一工作槽中的所述基材通过滚轮感应去除所述基材表面的所述具有第一浓度的酸性溶液，并将其移动至第二工作槽，所述第二工作槽容纳具有第二浓度的酸性溶液，所述第二浓度大于所述第一浓度； S203，采用所述具有第二浓度的酸性溶液喷淋所述第一表面，以使得所述氧化膜在所述第一开口的侧壁的生长速率大于在所述第一开口的底壁的生长速率，从而形成厚度逐渐变化的所述氧化膜。

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