浙江众凌科技有限公司朱友宏获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江众凌科技有限公司申请的专利一种金属掩膜版基材的曝光方法及曝光组件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121165408B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511613668.8，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种金属掩膜版基材的曝光方法及曝光组件是由朱友宏;徐华伟;龚月良;叶大成;冯志恒;闫西安设计研发完成，并于2025-11-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种金属掩膜版基材的曝光方法及曝光组件在说明书摘要公布了：本申请提供一种金属掩膜版基材的曝光方法和曝光组件。所述曝光方法包括：将金属掩膜版基材放置在正对设置的移动侧光罩和基准侧光罩之间，在所述移动侧光罩表面上下两端、位于有效曝光区外分别设置断张组件。该断张组件采用柔软的材料制作、长度不短于该金属掩膜版基材的宽度。移动侧光罩贴合金属掩膜版基材时，该断张组件的厚度使其与移动侧光罩同时接触该金属掩膜版基材。本申请提供的技术方案通过在移动侧光罩上增设断张组件阻断所述金属掩膜版基材受挤压时产生的、指向所述有效曝光区外的张力，降低其内部拉伸应力的不一致性，减小该金属掩膜版基材的滑动延伸，从而降低曝光图形的尺寸偏差量。
本发明授权一种金属掩膜版基材的曝光方法及曝光组件在权利要求书中公布了：1.一种金属掩膜版基材的曝光方法，其特征在于，所述曝光方法包括：将金属掩膜版基材放置在移动侧光罩和基准侧光罩之间，所述移动侧光罩和基准侧光罩垂直正对设置；在所述移动侧光罩表面上下两端、位于有效曝光区外分别设置一个沿该金属掩膜版基材宽度方向延伸的、条带状的断张组件；所述断张组件采用柔软的材料制作，其长度不短于所述金属掩膜版基材的宽度；向金属掩膜版基材移动所述移动侧光罩，在所述移动侧光罩移动到位后对所述金属掩膜版基材曝光；所述断张组件的厚度设置为在吸附机构对曝光区域抽真空、使所述移动侧光罩贴合所述金属掩膜版基材时，所述断张组件与移动侧光罩同时接触所述金属掩膜版基材。
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