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龙图腾网获悉北京威睛光学技术有限公司申请的专利一种光学成像与编码孔技术融合的光学成像系统及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121089572B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511339376.X，技术领域涉及：G01B11/00；该发明授权一种光学成像与编码孔技术融合的光学成像系统及方法是由孙琼阁;马金亮;刘少青设计研发完成，并于2025-09-18向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种光学成像与编码孔技术融合的光学成像系统及方法在说明书摘要公布了：本发明公开一种光学成像与编码孔技术融合的光学成像系统及方法，旨在通过构建偏振编码调制系统，将反射光信号中分散的偏振分量整合为层次清晰的编码光场数据，突出光学要素间的耦合关系；采用重聚焦序列和焦面层析技术，充分挖掘不同深度层的空间几何信息和光强分布特征，揭示表面形貌的三维分布规律；引入波前校正和变形镜控制技术，自适应地调节光学系统的成像参数，拓展测量精度的适用范围；结合光强调制分析和相位展开窗口处理，刻画表面曲率的变化趋势，把握形貌测量的关键特征点；最终融合多维度、多层次的光学测量信息，形成内容丰富、精度可靠的三维测量输出，可为精密光学检测、表面质量评估等应用场景提供全面、高质的测量技术资源。

本发明授权一种光学成像与编码孔技术融合的光学成像系统及方法在权利要求书中公布了：1.一种光学成像与编码孔技术融合的光学成像方法，其特征在于，包括： 采集目标物体表面反射光信号和编码孔调制信号，通过图像传感器对所述反射光信号进行偏振编码孔调制获取调制光场数据，从所述编码孔调制信号中提取时戳参数，将所述调制光场数据与所述时戳参数进行时域关联生成编码光场响应值； 利用所述编码光场响应值构建重聚焦序列，对所述重聚焦序列进行视觉检测获取不同焦面数据，通过所述不同焦面数据进行焦面层析提取轮廓采样点集，基于所述轮廓采样点集构建表面形貌矩阵； 对所述表面形貌矩阵进行对比度特征分析识别高对比度区域，从所述高对比度区域中采用对比度增强确定测量基准位置，将所述测量基准位置与所述编码光场响应值比对确定编码测量节点； 依据所述编码测量节点进行波前校正器调节确定成像参数，包括：对所述编码测量节点进行波前畸变评估生成畸变分布图；基于所述畸变分布图建立校正镜面变形方案形成变形控制表；将所述变形控制表转换为驱动器激励信号获取激励参数组；根据所述激励参数组调节确定成像参数，利用所述成像参数通过变形镜控制组成波前优化序列，对所述波前优化序列进行图像融合生成测量配置方案；其中，所述对所述编码测量节点进行波前畸变评估生成畸变分布图，包括：对所述编码测量节点进行跨时段畸变追踪，获取畸变演变数据；基于所述畸变演变数据分析各光学要素的畸变贡献效应，建立畸变强度评估，所述各光学要素包括编码孔径畸变、焦面弯曲畸变和相位梯度畸变；对所述畸变强度评估进行空间分布映射，生成畸变分布图； 基于所述反射光信号中强度变化成分进行光强调制分析获取调制深度数据，基于所述调制深度数据与所述测量配置方案确定测量周期，根据所述测量周期执行光强调制测量操作形成轮廓重构场； 基于所述轮廓重构场确定相位展开窗口，基于所述相位展开窗口进行相位梯度处理获取轮廓曲率测量结果，完成光学成像。

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