东京毅力科创株式会社郑和俊获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利等离子体处理装置和等离子体处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120642036B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202480011167.X，技术领域涉及：H10P50/20；该发明授权等离子体处理装置和等离子体处理方法是由郑和俊;大秦充敬;保坂勇贵;河村嵩之设计研发完成，并于2024-02-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本等离子体处理装置和等离子体处理方法在说明书摘要公布了：等离子体处理装置包括：等离子体处理腔室；基片支承部，其配置在所述等离子体处理腔室内；环状挡板，其以包围所述基片支承部的方式配置，具有多个开口；第一环状板，其在所述环状挡板的下方，内端固定配置在所述基片支承部的侧壁；可动结构体，其配置在所述第一环状板的下方，具有圆筒状壁体和第二环状板，所述圆筒状壁体沿着所述等离子体处理腔室的侧壁在纵向上配置，且与该等离子体处理腔室的侧壁之间形成有间隙，所述第二环状板配置在所述圆筒状壁体的内壁上端，且以与所述第一环状板的一部分在纵向上重叠的方式形成有环状重叠部分；以及致动器，其使所述可动结构体在纵向上移动。
本发明授权等离子体处理装置和等离子体处理方法在权利要求书中公布了：1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括： 等离子体处理腔室； 基片支承部，其配置在所述等离子体处理腔室内； 环状挡板，其以包围所述基片支承部的方式配置，具有多个开口； 固定上侧环状板，其配置在所述环状挡板的下方，从所述基片支承部的侧壁向外方延伸，在所述固定上侧环状板与所述等离子体处理腔室的侧壁之间形成有第一间隙； 可动结构体，其配置在所述固定上侧环状板的下方，具有圆筒状壁体和下侧环状板，所述圆筒状壁体沿着所述等离子体处理腔室的侧壁在纵向上延伸，在所述圆筒状壁体与所述等离子体处理腔室的侧壁之间形成有第二间隙，所述下侧环状板从所述圆筒状壁体的上端向内方延伸，具有与所述固定上侧环状板在纵向上重叠的环状重叠部分，在所述下侧环状板与所述基片支承部的侧壁之间形成有第三间隙；以及 致动器，其构成为使所述可动结构体在纵向上移动。
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