大日本印刷株式会社池永知加雄获国家专利权
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龙图腾网获悉大日本印刷株式会社申请的专利蒸镀掩模、带框架的蒸镀掩模、蒸镀掩模的制造方法、有机器件的制造方法和带框架的蒸镀掩模的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120555945B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510737400.9，技术领域涉及：C23C14/04；该发明授权蒸镀掩模、带框架的蒸镀掩模、蒸镀掩模的制造方法、有机器件的制造方法和带框架的蒸镀掩模的制造方法是由池永知加雄设计研发完成，并于2023-01-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本蒸镀掩模、带框架的蒸镀掩模、蒸镀掩模的制造方法、有机器件的制造方法和带框架的蒸镀掩模的制造方法在说明书摘要公布了：本发明提供蒸镀掩模、带框架的蒸镀掩模、蒸镀掩模的制造方法、有机器件的制造方法和带框架的蒸镀掩模的制造方法。所述蒸镀掩模具备：包含硅的掩模基板；具有第1面和位于第1面的相反侧且与掩模基板相向的第2面的掩模层；和贯通掩模层的贯通孔，掩模基板具有基板开口，在俯视时，贯通孔位于基板开口内，掩模层具有：形成第1面的掩模主体层；和位于掩模主体层与掩模基板之间的掩模中间层，掩模主体层包含金属材料，在俯视时，所述掩模主体层的外缘位于比所述掩模中间层的外缘更靠近内侧的位置。
本发明授权蒸镀掩模、带框架的蒸镀掩模、蒸镀掩模的制造方法、有机器件的制造方法和带框架的蒸镀掩模的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种蒸镀掩模，其具备： 掩模基板，其包含硅； 掩模层，其具有第1面和位于所述第1面的相反侧且与所述掩模基板相向的第2面；和 贯通孔，其贯通所述掩模层， 所述掩模基板具有基板开口， 在俯视时，所述贯通孔位于所述基板开口内， 所述掩模层具有：掩模主体层，其形成所述第1面；和掩模中间层，其位于所述掩模主体层与所述掩模基板之间， 所述掩模主体层包含金属材料， 在俯视时，所述掩模主体层的外缘位于比所述掩模中间层的外缘更靠近内侧的位置。
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