霍尼韦尔国际公司刘波获国家专利权
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龙图腾网获悉霍尼韦尔国际公司申请的专利用于减少溅射靶与屏蔽件之间的错位的器件获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119546797B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-01发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202380052902.7,技术领域涉及:C23C14/34;该发明授权用于减少溅射靶与屏蔽件之间的错位的器件是由刘波设计研发完成,并于2023-07-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于减少溅射靶与屏蔽件之间的错位的器件在说明书摘要公布了:一种用于溅射室的暗空间屏蔽件上的间隔导向件包括水平主体,该水平主体具有第一端部、与第一端部相对的第二端部以及厚度,该水平主体被构造成静置在暗空间屏蔽件的端部上;第一腿部,该第一腿部从水平主体的第一端部侧向延伸并且被构造成静置抵靠暗空间屏蔽件的外表面;和第二腿部,该第二腿部从水平主体的第二端部侧向延伸并且被构造成静置抵靠屏蔽件的内表面。
本发明授权用于减少溅射靶与屏蔽件之间的错位的器件在权利要求书中公布了:1.一种用于溅射室的暗空间屏蔽件上的间隔导向件,所述间隔导向件包括: 水平主体,所述水平主体具有第一端部、与所述第一端部相对的第二端部以及厚度,所述水平主体被构造成静置在所述暗空间屏蔽件的端部上; 第一腿部,所述第一腿部从所述水平主体的所述第一端部侧向延伸并且被构造成静置抵靠所述暗空间屏蔽件的外表面;和 第二腿部,所述第二腿部从所述水平主体的所述第二端部侧向延伸并且被构造成静置抵靠所述屏蔽件的内表面,其中,所述水平主体、所述第一腿部和所述第二腿部由绝缘材料形成。
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