济南大学姜绪宝获国家专利权
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龙图腾网获悉济南大学申请的专利一种高比表面聚脲自具微孔材料及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117327247B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311437806.2，技术领域涉及：C08G18/32；该发明授权一种高比表面聚脲自具微孔材料及其制备方法是由姜绪宝;张桂瑜;孔祥正;吕烨;李树生;朱晓丽设计研发完成，并于2023-11-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高比表面聚脲自具微孔材料及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种高比表面聚脲自具微孔材料及其制备方法，是以丙酮、乙腈等有机溶剂或其与水的混合物作为反应介质，使用含刚性和扭曲结构的多异氰酸酯和多元胺为单体，通过逐步聚合制备得到。本发明无需乳化剂及催化剂等物质，聚合完成后单体完全转化，反应时间不超过2小时，且聚合反应可在静置不搅拌的条件下进行，无需任何搅拌或振荡设备，成本和能耗较低，生产效率高，有利于实现自具微孔材料的规模化生产及应用。采用超临界液体萃取技术对产物进行后处理，使材料比表面积明显提高。本发明制备聚脲自具微孔材料的产率大于95.0%，比表面积在500～900m2g之间，平均孔尺寸为0.6～2.0nm。
本发明授权一种高比表面聚脲自具微孔材料及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种高比表面聚脲自具微孔材料的制备方法，其特征在于，具体步骤如下：先将含刚性扭曲结构的多异氰酸酯单体和多元胺单体溶解于反应介质中，然后在恒温水浴中进行聚合反应，得到反应产物，最后将反应产物利用超临界液体萃取和有机溶剂浸泡交替处理，即得所述的聚脲自具微孔材料，其比表面积介于500～900m2g之间，平均孔尺寸为0.6～2.0nm；所述含刚性扭曲结构的多异氰酸酯单体为三碟烯二异氰酸酯。
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