京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司丁丁获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司申请的专利微孔阵列芯片及其使用方法和检测装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117279714B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202280000822.2，技术领域涉及：B01L3/00；该发明授权微孔阵列芯片及其使用方法和检测装置是由丁丁;徐健;邓林;刘祝凯设计研发完成，并于2022-04-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本微孔阵列芯片及其使用方法和检测装置在说明书摘要公布了：一种微孔阵列芯片及其使用方法和检测装置。该微孔阵列芯片包括微孔阵列基板，微孔阵列基板包括相对设置的第一主表面和第二主表面、n个反应腔室和闲置区域；n个反应腔室阵列设置在微孔阵列基板之中，闲置区域围绕n个反应腔室设置；反应腔室被配置为容纳待测样品，反应腔室在第一主表面所在的第一参考平面上的正投影的形状为正N边形，闲置区域的面积被划分为n’个虚拟单元，虚拟单元在第一参考平面上的正投影形状与反应腔室在第一参考平面上的正投影的形状相同。该微孔阵列芯片通过高效地利用微孔阵列基板的面积，从而增加单个反应腔室的体积，进而可提高该微孔阵列芯片的灵敏度，并降低该微孔阵列芯片的检出限。
本发明授权微孔阵列芯片及其使用方法和检测装置在权利要求书中公布了：1.一种微孔阵列芯片，包括： 微孔阵列基板，包括相对设置的第一主表面和第二主表面； n个反应腔室，阵列设置在所述微孔阵列基板之中，并被配置为容纳待测样品，所述反应腔室在所述第一主表面所在的第一参考平面上的正投影的形状为正N边形；以及 闲置区域，围绕n个所述反应腔室设置； 其中，所述闲置区域的面积被划分为n’个虚拟单元，所述虚拟单元在所述第一参考平面上的正投影的形状与反应腔室的在第一参考平面上的正投影的形状相同，n个所述反应腔室的总体积V满足下列公式： ， 其中，1-α为置信度水平，Schip为所述微孔阵列基板的面积，h为所述反应腔室在垂直于所述第一参考平面的方向上的深度，N为大于等于3的正整数，X为相邻的所述反应腔室之间的间隔在相邻的所述反应腔室的中心连线的尺寸的12。
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