季华实验室赵帅获国家专利权
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龙图腾网获悉季华实验室申请的专利贝塞尔高斯光束的衍射场计算方法、装置、设备及介质获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116244559B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-01发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211600523.0,技术领域涉及:G06F17/14;该发明授权贝塞尔高斯光束的衍射场计算方法、装置、设备及介质是由赵帅;严启峰;钟志成设计研发完成,并于2022-12-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本贝塞尔高斯光束的衍射场计算方法、装置、设备及介质在说明书摘要公布了:本申请公开了一种贝塞尔高斯光束的衍射场计算方法、装置、设备及介质,贝塞尔高斯光束由离轴锥反射镜的锥面将以一预设入射角入射的高斯光束反射得到;方法包括:获取高斯光束在离轴锥反射镜上刚刚反射后形成的反射光束的第一光场分布;基于所述第一光场分布,构建一虚拟面,并获得所述高斯光束在所述虚拟面上的第三光场分布;确定第三光场分布的离散化频谱;确定贝塞尔高斯光束在预设衍射场上的离散采样点坐标集;基于离散化频谱,对离散采样点坐标集进行非均匀离散傅里叶变换,获得贝塞尔高斯光束在预设衍射场上的第二光场分布。本申请提供了一种计算离轴锥反射镜生成的贝塞尔高斯光束的衍射场的低复杂度、快速计算算法。
本发明授权贝塞尔高斯光束的衍射场计算方法、装置、设备及介质在权利要求书中公布了:1.一种贝塞尔高斯光束的衍射场计算方法,其特征在于,所述贝塞尔高斯光束由离轴锥反射镜的锥面将以一预设入射角入射的高斯光束反射得到; 所述方法包括: 获取所述高斯光束在所述离轴锥反射镜上刚刚反射后形成的反射光束的第一光场分布; 基于所述第一光场分布,构建一虚拟面,并获得所述高斯光束在所述虚拟面上的第三光场分布; 确定所述第三光场分布的离散化频谱; 确定所述贝塞尔高斯光束在预设衍射场上的离散采样点坐标集; 基于所述离散化频谱,对所述离散采样点坐标集进行非均匀离散傅里叶变换,获得所述贝塞尔高斯光束在所述预设衍射场上的第二光场分布; 所述基于所述第一光场分布,构建一虚拟面,并获得所述高斯光束在所述虚拟面上的第三光场分布,包括: 将所述第一光场分布的第一光学表达式改写为中间表达式;所述第一光学表达式为: 所述中间表达式为: 基于所述中间表达式,构建所述虚拟面; 获得所述高斯光束在所述虚拟面上的第三光场分布的第三光学表达式,所述第三光学表达式为: 其中,为所述反射光束在第一光场平面上的第一光场分布,所述离轴锥反射镜的锥面顶点位于所述第一光场平面上,且所述第一光场平面的法向和所述高斯光束的入射方向的夹角为所述预设入射角,所述第一光场平面上具有坐标系,为所述第三光场分布,为所述高斯光束的束腰半径,为所述高斯光束的波数,为所述高斯光束的波长,为所述离轴锥反射镜的顶角。
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