纽富来科技股份有限公司上羽亮介获国家专利权
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龙图腾网获悉纽富来科技股份有限公司申请的专利多带电粒子束描绘装置及多带电粒子束描绘方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115808850B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211113618.X，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权多带电粒子束描绘装置及多带电粒子束描绘方法是由上羽亮介;广濑晓;伊佐治俊辅;西村理惠子设计研发完成，并于2022-09-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本多带电粒子束描绘装置及多带电粒子束描绘方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种能够防止描绘精度的下降的多带电粒子束描绘装置及多带电粒子束描绘方法。本实施方式的多带电粒子束描绘方法具备：在对载置于连续移动的工作台上的基板照射包括多个带电粒子束的多束的期间中，进行跟踪动作以使上述多束的偏转位置追随于上述工作台的移动的工序；以及在上述跟踪动作中将上述多束的各束向上述基板的描绘区域被分割为网格状后的多个矩形区域分别照射的工序；在对上述矩形区域被以规定尺寸分割为网格状后的多个像素的至少一部分分别以第1发射顺序照射上述各束后，以与上述第1发射顺序不同的第2发射顺序照射上述各束。
本发明授权多带电粒子束描绘装置及多带电粒子束描绘方法在权利要求书中公布了：1.一种多带电粒子束描绘方法，其中， 具备： 在对载置于连续移动的工作台上的基板照射包括多个带电粒子束的多束的期间中，进行跟踪动作以使上述多束的偏转位置追随于上述工作台的移动的工序；以及 在上述跟踪动作中，将上述多束的各束向上述基板的描绘区域被分割为网格状后的多个矩形区域分别照射，并且在每次跟踪循环中向上述矩形区域照射不同的束的工序， 在对上述矩形区域被以规定尺寸分割为网格状后的多个像素的至少一部分分别以第1发射顺序照射了上述各束后，以与上述第1发射顺序不同的第2发射顺序照射上述各束。
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