上海航天设备制造总厂有限公司南博华获国家专利权
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龙图腾网获悉上海航天设备制造总厂有限公司申请的专利一种嵌入式薄弱区细观结构的复合材料易裂盖及制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115628642B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211137489.8，技术领域涉及：F41F1/00；该发明授权一种嵌入式薄弱区细观结构的复合材料易裂盖及制备方法是由南博华;张雷达;徐澧明;蔡登安;李照谦;王卓;周煦洁;张志华;周光明设计研发完成，并于2022-09-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种嵌入式薄弱区细观结构的复合材料易裂盖及制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种嵌入式薄弱区细观结构的复合材料易裂盖及制备方法，其中，易裂盖包括：法兰框、薄弱区和分离体；薄弱区为一种基于梯形凹槽的嵌入式胶接结构，可以通过调整此薄弱区中梯形凹槽斜坡的长度和倾角角度来调节易裂盖内外承载性能。在导弹发射工况下，分离体发生较大变形时，分离体与薄弱区倾角间的胶层发生剪切和拉伸破坏，从而实现分离体与法兰的分离，为导弹让出前进通道。本发明是一种结构紧凑的，可实现盖体外承载极值与内承载极值之比在以1为原点的左右一定区间范围内自由达到的易裂盖，适用于气密性能指标和开盖性能指标相互矛盾且对器材空间有严格要求的情况。
本发明授权一种嵌入式薄弱区细观结构的复合材料易裂盖及制备方法在权利要求书中公布了：1.一种嵌入式薄弱区细观结构的复合材料易裂盖，其特征在于，包括：法兰框1、薄弱区2、分离体3；所述分离体3嵌入法兰框1中，并在二者接触面上用胶粘剂进行胶接；所述法兰框1和分离体3的嵌入和胶接区域即为易裂盖的薄弱区2；所述法兰框1与分离体3的接触面为具有斜坡6、7的梯形凹槽形式，而分离体3与法兰框1的接触面则为与之互补的凸台形式，二者装配后形成几何拓扑结构的卡位和胶接的综合连接形式；通过分别对薄弱区梯形凹槽中两侧斜坡6、7的长度和角度8、9单独设置值，从而实现盖体外承载极值与内承载极值之比在以1为原点的左右一定区间范围内可自由。
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