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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司申请的专利显示基板及其制备方法、显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115552615B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180000912.7，技术领域涉及：H10K59/122；该发明授权显示基板及其制备方法、显示装置是由樊星;陈善韬;李鑫;高昊;韩城;李彦松设计研发完成，并于2021-04-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本显示基板及其制备方法、显示装置在说明书摘要公布了：一种显示基板，包括：远离衬底基板依次设置的第一电极层、像素定义层、有机发光层、第二电极层和第一封装层。像素定义层具有多个开口，至少一个开口露出第一电极层。像素定义层在靠近至少一个开口的边缘具有第一爬坡部和第二爬坡部，第二爬坡部远离衬底基板的表面到衬底基板的距离大于第一爬坡部远离衬底基板的表面到衬底基板的距离；第一爬坡部和第二爬坡部的坡度角不同。第一封装层具有第一封装爬坡部和第二封装爬坡部，第二封装爬坡部远离衬底基板的表面到衬底基板的距离大于第一封装爬坡部远离衬底基板的表面到衬底基板的距离，第一封装爬坡部和第二封装爬坡部的坡度角不同。

本发明授权显示基板及其制备方法、显示装置在权利要求书中公布了：1.一种显示基板，包括： 远离衬底基板依次设置的第一电极层、像素定义层、有机发光层、第二电极层和第一封装层； 所述像素定义层具有多个开口，至少一个开口露出第一电极层； 所述像素定义层在靠近至少一个开口的边缘具有第一爬坡部和第二爬坡部，所述第二爬坡部远离衬底基板的表面到衬底基板的距离大于所述第一爬坡部远离衬底基板的表面到衬底基板的距离；所述第一爬坡部和第二爬坡部的坡度角不同；在平行于显示基板的平面内，第一爬坡部在衬底基板的正投影为环状，且围绕发光区域设置； 所述第一封装层具有第一封装爬坡部和第二封装爬坡部，所述第二封装爬坡部远离衬底基板的表面到衬底基板的距离大于所述第一封装爬坡部远离衬底基板的表面到衬底基板的距离，所述第一封装爬坡部和第二封装爬坡部的坡度角不同； 所述坡度角为爬坡部的切线与平行于衬底基板的平面的夹角； 所述第一爬坡部具有至少一个第一台阶，所述第一台阶具有第一平坦部和第一坡面，所述第一平坦部连接在所述第一坡面和第二爬坡部之间；所述像素定义层在靠近至少一个开口的边缘还具有第二平坦部，所述第二平坦部与所述第二爬坡部连接；所述第二平坦部远离衬底基板的表面到衬底基板的距离大于所述第二爬坡部远离衬底基板的表面到衬底基板的距离；所述第二爬坡部和第二平坦部形成第二台阶；在垂直于衬底基板的平面内，第一台阶为梯形，第二台阶为倒梯形； 所述第一封装层的厚度为600纳米至3微米，在垂直于衬底基板的方向上，所述第一平坦部远离衬底基板的表面到所述第一电极层的距离大于或等于200纳米。

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