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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基片液处理装置和基片液处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115206833B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210287128.5，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权基片液处理装置和基片液处理方法是由丸本洋设计研发完成，并于2022-03-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本基片液处理装置和基片液处理方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种基片液处理装置和基片液处理方法。基片液处理装置包括：处理槽；基片支承部件，其将多个基片以铅直姿态在水平方向上隔开预先设定的间隔地排列并支承；升降机构，其使基片支承部件在处理槽内的处理位置与处理槽的上方的退避位置之间升降；摄像部，其设置于能够拍摄处理槽所贮存的处理液内的多个基片的位置；基片位置判断部，其基于摄像部拍摄得到的图像数据，进行基片位置判断，该基片位置判断是判断由基片支承部件支承的多个基片的实际位置与基片应当位于的基准位置的偏差是否在允许范围内；和控制基片液处理装置的动作的控制部。根据本发明，能够确认基片在被浸渍于处理槽所贮存的处理液中的状态下是否被基片支承部件适当地保持。

本发明授权基片液处理装置和基片液处理方法在权利要求书中公布了：1.一种基片液处理装置，其特征在于，包括： 贮存处理液的处理槽，其具有基片送入送出用的上部开口； 基片支承部件，其将多个基片以铅直姿态在水平方向上隔开预先设定的间隔地排列并支承所述多个基片； 升降机构，其使所述基片支承部件通过所述上部开口在所述处理槽内的处理位置与所述处理槽的上方的退避位置之间升降； 摄像部，其设置于能够拍摄在所述处理槽所贮存的处理液内由位于所述处理位置的所述基片支承部件支承的所述多个基片的位置； 基片位置判断部，其基于通过所述摄像部对在所述处理槽所贮存的处理液内由位于所述处理位置的所述基片支承部件支承的所述多个基片进行拍摄而得到的图像数据，进行基片位置判断，该基片位置判断是判断由所述基片支承部件支承的所述多个基片的实际位置与所述基片应当位于的基准位置的偏差是否在允许范围内；和 控制所述基片液处理装置的动作的控制部， 所述基片位置判断部在所述基片位置判断中，在由所述基片支承部件支承的所述多个基片中的至少相邻的2个基片之间的距离比预先设定的阈值小时，判断为所述偏差没有在允许范围内。

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