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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理装置、基板处理方法和计算机可读取的存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114975169B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210127703.5，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权基板处理装置、基板处理方法和计算机可读取的存储介质是由桥本佑介;东岛治郎;绪方信博;后藤大辅;二俣雄亮;中泽贵士设计研发完成，并于2022-02-11向国家知识产权局提交的专利申请。

本基板处理装置、基板处理方法和计算机可读取的存储介质在说明书摘要公布了：本公开涉及基板处理装置、基板处理方法和计算机可读取的存储介质，能够提高蚀刻处理的面内均匀性。基板处理装置具有支承部、基座构件、旋转部、气体供给部、以及气体整流部。气体整流部包含：棒状构件，其包含与基板的下表面相对的顶端部；整流构件，其配置为包围顶端部。顶端部包含以自顶端部的外周面向外侧突出后朝向下方延伸的方式设于外周面的折回部。整流构件包含：底壁部，其配置为内周缘与顶端部的外周面分离开；突出部，其以顶端部位于折回部和顶端部的外周面之间的方式自底壁部的内周部朝向上方延伸；水平整流部，其以与底壁部分离开的状态沿水平方向延伸；以及多个柱部，其连接水平整流部和底壁部。

本发明授权基板处理装置、基板处理方法和计算机可读取的存储介质在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，其特征在于， 该基板处理装置具有： 支承部，该支承部构成为支承在上表面形成有膜的基板； 基座构件，该基座构件设置有贯通孔，构成为与被所述支承部支承着的所述基板的下表面分离开并且与该下表面相对； 旋转部，该旋转部构成为使所述基座构件和所述支承部旋转； 化学溶液供给部，该化学溶液供给部构成为向被所述支承部支承着的所述基板的上表面供给蚀刻液； 气体供给部；以及 气体整流部，该气体整流部构成为对自所述气体供给部供给的气体进行整流，并将整流后的气体向被所述支承部支承着的所述基板的下表面和所述基座构件之间的空间排出， 所述气体整流部包含： 棒状构件，该棒状构件沿上下方向延伸，包含与被所述支承部支承着的所述基板的下表面相对并且配置于所述贯通孔内的顶端部；以及 环状的整流构件，该整流构件配置为包围所述顶端部， 所述顶端部包含环状的折回部，该折回部以自所述顶端部的外周面向外侧突出后朝向下方延伸的方式设于所述外周面， 所述整流构件包含： 环状的底壁部，该底壁部配置为内周缘与所述顶端部的外周面分离开； 环状的突出部，该突出部以其上端部位于所述折回部和所述顶端部的外周面之间的方式自所述底壁部的内周部向上方延伸； 环状的水平整流部，该水平整流部在较所述折回部靠外侧的位置且是所述底壁部的上方处，以与所述底壁部分离开的状态沿水平方向延伸；以及 多个柱部，该柱部连接所述水平整流部和所述底壁部，沿所述顶端部的周向排列。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人东京毅力科创株式会社，其通讯地址为：日本东京都；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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