波音公司J·J·奇尔德雷斯获国家专利权
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龙图腾网获悉波音公司申请的专利紫外光清洁系统和使用方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114515728B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111287634.6，技术领域涉及：B08B7/00；该发明授权紫外光清洁系统和使用方法是由J·J·奇尔德雷斯设计研发完成，并于2021-11-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本紫外光清洁系统和使用方法在说明书摘要公布了：本公开涉及紫外光清洁系统和使用方法。所述清洁系统包括被配置为发射预定波长范围内的紫外UV光的UV光源以及对所述预定波长范围具有预定透明度的目标。所述清洁系统还可以包括可去除地联接到所述目标的接触元件。所述UV光源清洁所述目标，所述目标被配置为响应于力被施加到所述目标而引起所述接触元件的运动。所述清洁系统还可以包括一个或更多个反射器或吸收器，所述反射器或吸收器联接到所述目标或所述UV光源或相对于所述目标或所述UV光源设置，以控制UV光的发射。
本发明授权紫外光清洁系统和使用方法在权利要求书中公布了：1.一种清洁系统，所述清洁系统包括： 紫外光源102，其被配置为发射波长范围从约222纳米至约300纳米的紫外光； 目标104，其对波长范围从约222纳米至约300纳米的紫外光至少30%透明； 接触元件112，其可去除地联接到所述目标104，并被配置为响应于力被施加到所述目标104而引起所述接触元件112的运动；以及 与所述接触元件112和所述目标104中的每个直接接触并可去除地联接到所述接触元件112和所述目标104中的每个的部件106， 其中，所述目标104的内部包括至少一个目标吸收器420，所述目标吸收器420被配置为在紫外光穿过所述目标104的至少一个表面之后吸收所述紫外光，用于屏蔽用户免受反射和发射的紫外光的影响， 其中，所述目标吸收器420由包括多个孔的材料形成，其中，多个孔中的每个孔具有比所述紫外光源所发射的最大波长大的最大直径。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人波音公司，其通讯地址为：美国伊利诺伊州；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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