东京毅力科创株式会社绪方信博获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114334713B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-01发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202111150556.5,技术领域涉及:H10P70/00;该发明授权基板处理装置是由绪方信博;樱井宏纪;后藤大辅;古贺贵广;森宽太;桥本佑介设计研发完成,并于2021-09-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理装置在说明书摘要公布了:本发明涉及基板处理装置。提供一种能够在液处理中提升去除对象物的去除效率的技术。本公开的基板处理装置具有流体供给部、处理液供给部以及喷嘴。流体供给部供给包含经过了加压的纯水的蒸汽或水雾的流体。处理液供给部供给至少包含硫酸的处理液。喷嘴具有第1喷出口、第2喷出口以及导出路径。第1喷出口喷出自流体供给部供给的流体。第2喷出口喷出自处理液供给部供给的处理液。导出路径与第1喷出口以及第2喷出口连通,导出自第1喷出口喷出的流体和自第2喷出口喷出的处理液的混合流体。另外,导出路径的截面面积比第1喷出口的截面面积大。
本发明授权基板处理装置在权利要求书中公布了:1.一种基板处理装置,其特征在于, 该基板处理装置具有: 基板保持部,其以能够使基板旋转的方式保持该基板; 流体供给部,其供给包含经过了加压的纯水的蒸汽或水雾的流体; 处理液供给部,其供给至少包含硫酸的处理液;以及 喷嘴,其与所述流体供给部以及所述处理液供给部连接,将所述流体和所述处理液混合而向所述基板喷出, 所述喷嘴具有: 第1喷出口,其喷出自所述流体供给部供给的所述流体; 第2喷出口,其喷出自所述处理液供给部供给的所述处理液;以及 导出路径,其与所述第1喷出口以及所述第2喷出口连通,导出自所述第1喷出口喷出的所述流体和自所述第2喷出口喷出的所述处理液的混合流体, 所述导出路径的截面面积比所述第1喷出口的截面面积大, 其中,所述导出路径在下端具有多个喷射口, 所述喷射口的截面面积比所述导出路径的截面面积小。
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