东京毅力科创株式会社桥本祐作获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理方法、计算机可读存储介质以及基板处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114002920B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110812427.1，技术领域涉及：G03F7/30；该发明授权基板处理方法、计算机可读存储介质以及基板处理装置是由桥本祐作;田中公一朗;福田昌弘;大河内厚设计研发完成，并于2021-07-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理方法、计算机可读存储介质以及基板处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种基板处理方法、计算机可读存储介质以及基板处理装置，能够实现基板面内的显影处理的均匀化。基板处理方法包括：进行第一显影处理，在所述第一显影处理中，将具有一个端面和在端面开设的喷出口的喷嘴以端面与基板的表面相向的方式配置，在一边使基板旋转一边从喷出口以第一流量喷出显影液的状态下，一边使端面与基板的表面上的显影液接触一边使喷嘴移动；以及在第一显影处理之后进行第二显影处理，在所述第二显影处理中，一边使基板旋转，一边在使端面在与基板的表面的中心相向的位置接触基板的表面上的显影液的状态下从喷出口以比第一流量大的第二流量喷出显影液。
本发明授权基板处理方法、计算机可读存储介质以及基板处理装置在权利要求书中公布了：1.一种基板处理方法，包括： 进行第一显影处理，在所述第一显影处理中，将具有一个端面和在所述端面开设的喷出口的喷嘴以所述端面与基板的表面相向的方式配置，在一边使所述基板旋转一边从所述喷出口以第一流量喷出显影液的状态下，一边使所述端面与所述基板的表面上的所述显影液接触一边使所述喷嘴移动；以及 在所述第一显影处理之后进行第二显影处理，在所述第二显影处理中，一边使所述基板旋转，一边在使所述端面在与所述基板的表面的中心相向的位置处接触所述基板的表面上的所述显影液的状态下从所述喷出口以比所述第一流量大的第二流量喷出所述显影液。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人东京毅力科创株式会社，其通讯地址为：日本东京都；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励