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龙图腾网获悉恩智浦有限公司申请的专利具有功能单元和可重新配置的去耦单元的集成电路获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112241618B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010637982.0，技术领域涉及：G06F30/392；该发明授权具有功能单元和可重新配置的去耦单元的集成电路是由斯文·特雷斯特设计研发完成，并于2020-07-03向国家知识产权局提交的专利申请。

本具有功能单元和可重新配置的去耦单元的集成电路在说明书摘要公布了：公开了一种用于设计集成电路的方法，所述集成电路将构造在单元中，其中所述单元将包括功能单元和备用单元。所述方法包括：a设计至少一个功能单元；以及b将多个功能单元放置在针对所述功能单元设计的特别是规则的图案矩阵的相关联的图案位置上。所述方法另外包括c将基于栅极的去耦单元放置在所述图案矩阵的剩余图案位置中的至少一个剩余图案位置上并且代替针对所述图案矩阵的所述剩余图案位置中的所述至少一个剩余图案位置可想到的至少一个备用单元，以及可替换的是或另外，d将基于栅极的去耦单元放置在图案矩阵的图案位置之间的至少一个间隙中并且代替针对所述图案矩阵的图案位置之间的所述至少一个间隙可想到的至少一个填充单元。

本发明授权具有功能单元和可重新配置的去耦单元的集成电路在权利要求书中公布了：1.一种用于设计集成电路100的方法300，其特征在于，所述集成电路将构造在单元110中，其中所述单元110将包括功能单元120和备用单元130，所述方法300具有： a设计312至少一个功能单元120； b将多个功能单元120放置314在针对所述功能单元120设计的特别是规则的图案矩阵的图案矩阵的相关联的图案位置上；以及 c对于所述图案矩阵中剩余图案位置的至少一个设计至少一个备用单元130，并将基于栅极的去耦单元160代替所述至少一个备用单元以放置320在所述图案矩阵的所述剩余图案位置的至少一个上，其中，所述基于栅极的去耦单元160被设计成在金属工程改变命令的过程中可被重新配置，以达到合适的新单元功能，和 d在所述图案矩阵中图案位置之间的至少一个间隙中设计至少一个填充单元140，并将基于栅极的去耦单元160'代替所述至少一个填充单元以放置320'在所述图案矩阵的图案位置之间的至少一个间隙中，其中，所述基于栅极的去耦单元160'被设计成在金属工程改变命令的过程中可被重新配置，以达到合适的新单元功能。

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