纳米系统解决方案株式会社木村一彦获国家专利权
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龙图腾网获悉纳米系统解决方案株式会社申请的专利曝光装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115380250B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180020118.9，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权曝光装置是由木村一彦设计研发完成，并于2021-03-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本曝光装置在说明书摘要公布了：提供一种能够在确保吞吐量的同时提高曝光精度的曝光装置。曝光装置100具备：反射型液晶调制装置21、22；光源装置10，用均匀化后的紫外线波长区域的脉冲状的激光光同样地照明反射型液晶调制装置21、22；投影光学系统30，使由反射型液晶调制装置21、22调制后的反射光进行成像；以及工作台40，支承利用由投影光学系统30成像后的图案进行曝光的对象。
本发明授权曝光装置在权利要求书中公布了：1.一种曝光装置，其中，具备： 反射型液晶调制装置； 光源装置，用均匀化后的紫外线波长区域的脉冲状的激光光同样地照明所述反射型液晶调制装置； 投影光学系统，使由所述反射型液晶调制装置调制后的反射光进行成像；以及 工作台，支承利用由所述投影光学系统成像后的图案进行曝光的对象， 一边通过所述工作台使对象移动，一边以规定的周期性定时对对象上排列成格子状的部分区域依次进行曝光，而对对象整体进行曝光， 在曝光的间歇，对所述反射型液晶调制装置进行图案的改写， 所述光源装置包括脉冲激光器，以所述工作台视为实质上停止的脉冲宽度来产生针对各部分区域的曝光光。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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