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龙图腾网获悉中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所申请的专利一种复合铜箔及其制备方法与应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119824415B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510046741.1，技术领域涉及：C23C28/02；该发明授权一种复合铜箔及其制备方法与应用是由唐秋龙;赵吉路;沈炎宾设计研发完成，并于2025-01-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种复合铜箔及其制备方法与应用在说明书摘要公布了：本发明涉及一种复合铜箔及其制备方法与应用，所述复合铜箔的制备方法包括如下步骤：1采用磁控溅射在聚合物基底上沉积铜层，然后通过液相浸泡处理或气相沉积处理，在沉积铜层的聚合物基底上包覆自组装分子过渡层，得到复合结构层；2对步骤1所得复合结构层依次进行水电镀处理与后处理，得到所述复合铜箔。本发明通过在磁控溅射金属层表面修饰与金属铜具有较强结合力的化学分子作为过渡层，增强了磁控溅射金属层与水电镀层的粘结力，结合水电镀工艺及配方的优化，提高了复合铜箔的力学性能和电学性能。

本发明授权一种复合铜箔及其制备方法与应用在权利要求书中公布了：1.一种复合铜箔的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤： 1采用磁控溅射在聚合物基底上沉积铜层，然后通过液相浸泡处理或气相沉积处理，在沉积铜层的聚合物基底上包覆自组装分子过渡层，得到复合结构层； 2对步骤1所得复合结构层依次进行水电镀处理与后处理，得到所述复合铜箔； 步骤1所述液相浸泡处理与气相沉积处理所用试剂均为亲铜性自组装分子的有机溶液； 所述亲铜性自组装分子的有机溶液中的亲铜性自组装分子包括三聚硫氰酸、三聚氰酸、苯并三氮唑或2-巯基苯并噻唑中的任意一种或至少两种的组合； 步骤2所述水电镀处理所用电解液的组成包括：0.02-0.04molL硫酸铜，0.1-0.4molL次亚磷酸钠，0.0015-0.005molL硫酸镍，0.03-0.07molL柠檬酸三钠，0.3-1molL硼酸以及1-15gL聚乙二醇，采用4molL氢氧化钠溶液调整电解液的pH值为7-9； 步骤2所述水电镀处理所用电解液的温度为60-80℃； 步骤2所述水电镀处理中将所述复合结构层作为工作电极，将同等面积的铜片作为对电极，电极间距为2-5cm； 步骤2所述水电镀处理的电流密度为1-4mAcm2，沉积时间为5-30min。

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