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上海恩捷新材料科技有限公司庄志获国家专利权

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龙图腾网获悉上海恩捷新材料科技有限公司申请的专利一种隔膜及其制备方法和应用获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116111285B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211582916.3,技术领域涉及:H01M50/457;该发明授权一种隔膜及其制备方法和应用是由庄志;曹大为;卞士聪;程龙;宁超宗;薛聪聪;陈永乐;崔如玉;程跃设计研发完成,并于2022-12-09向国家知识产权局提交的专利申请。

一种隔膜及其制备方法和应用在说明书摘要公布了:本申请公开了一种隔膜及其制备方法和应用,属于电池隔膜技术领域;所述隔膜包括基膜层和陶瓷涂层;所述基膜层包括第一基膜层和第二基膜层;所述陶瓷涂层设于所述第一基膜层和第二基膜层之间,所述陶瓷涂层的成分包括粘合剂和陶瓷,所述粘合剂和所述陶瓷的质量比值小于0.08;通过将陶瓷涂层置于第一基膜层和第二基膜层之间,基膜层能够向陶瓷涂层提供支撑力来抵消一部分陶瓷的重力,可减小陶瓷对粘合剂提供的粘接力的依赖,避免了完全依靠粘接力来抵消陶瓷的重力导致需要大量粘合剂的问题,有效地减小了粘合剂的用量,进而避免粘合剂堵塞第一基膜层和第二基膜层,解决了粘合剂堵塞隔膜微孔造成电化学性能降低的问题。

本发明授权一种隔膜及其制备方法和应用在权利要求书中公布了:1.一种隔膜,其特征在于,所述隔膜包括基膜层和陶瓷涂层;所述基膜层包括第一基膜层和第二基膜层;所述陶瓷涂层设于所述第一基膜层和第二基膜层之间,所述陶瓷涂层的成分包括粘合剂和陶瓷,所述粘合剂和所述陶瓷的质量比值为0.02-0.05,所述陶瓷包括第一陶瓷颗粒和第二陶瓷颗粒,所述第一陶瓷颗粒和所述第二陶瓷颗粒的粒径比值为3-5。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人上海恩捷新材料科技有限公司,其通讯地址为:201203 上海市浦东新区南芦公路155号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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