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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利液处理装置、液供给机构、液处理方法和计算机存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115769152B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180047390.6，技术领域涉及：H10P76/00；该发明授权液处理装置、液供给机构、液处理方法和计算机存储介质是由杉町尚德设计研发完成，并于2021-06-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本液处理装置、液供给机构、液处理方法和计算机存储介质在说明书摘要公布了：本发明提供液处理装置、液供给机构、液处理方法和计算机存储介质。对基片上供给处理液来对基片进行液处理的液处理装置包括：保持基片的基片保持部；对被上述基片保持部保持的基片释放处理液的释放嘴；供给处理液的处理液供给源；处理液供给管，其连接于上述处理液供给源，形成有供要被供给到上述释放嘴的处理液流通的供给通路；设置在上述处理液供给管的、进行上述供给通路的开闭动作的调节阀；和控制上述调节阀的控制部，上述调节阀具有隔膜和阀体，控制对上述隔膜的空气的供给，并经由上述隔膜使上述阀体动作，进行上述供给通路的开状态和全闭状态的开闭动作。

本发明授权液处理装置、液供给机构、液处理方法和计算机存储介质在权利要求书中公布了：1.一种对基片上供给处理液来对基片进行液处理的液处理装置，其特征在于，包括： 保持基片的基片保持部； 对被所述基片保持部保持的基片释放处理液的释放嘴； 供给处理液的处理液供给源； 连接于所述处理液供给源的处理液供给管，其形成有供要被供给到所述释放嘴的处理液流通的供给通路； 设置在所述处理液供给管的、进行所述供给通路的开闭动作的调节阀；和 控制所述调节阀的控制部， 所述调节阀具有隔膜和阀体，控制对所述隔膜的空气的供给，并经由所述隔膜使所述阀体动作，进行所述供给通路的开状态和全闭状态的开闭动作， 所述液处理装置还包括： 第一开闭阀，其设置在比所述调节阀靠下游侧的所述处理液供给管，进行所述供给通路的开闭动作； 处理液排出管，其连接于所述调节阀与第一开闭阀之间的所述处理液供给管，形成有排出处理液的排出通路；和 设置在所述处理液排出管的、进行所述排出通路的开闭动作的第二开闭阀， 所述控制部以切换第一状态与第二状态的方式控制所述调节阀、所述第一开闭阀和第二开闭阀，其中， 所述第一状态是所述第一开闭阀和所述第二开闭阀为闭状态，且所述调节阀为开状态， 所述第二状态是所述第一开闭阀为闭状态，所述第二开闭阀为开状态，且所述调节阀进行开状态和全闭状态的开闭动作。

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