爱思开海力士有限公司金镇浩获国家专利权
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龙图腾网获悉爱思开海力士有限公司申请的专利具有中间电极的基板处理设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114823260B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111079208.3，技术领域涉及：H01J37/305；该发明授权具有中间电极的基板处理设备是由金镇浩;成象铉;吴星来设计研发完成，并于2021-09-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本具有中间电极的基板处理设备在说明书摘要公布了：本公开涉及一种具有中间电极的基板处理设备。该基板处理设备可以包括真空室、设置在真空室的内部的下部部分处的基板支撑单元以及在真空室的内部形成电场的电场形成单元。电场形成单元可以包括设置在真空室内部的上部部分处的上电极、设置在基板支撑单元中的下电极以及设置在上电极和下电极之间的中间电极。
本发明授权具有中间电极的基板处理设备在权利要求书中公布了：1.一种用于处理晶圆的基板处理设备，该基板处理设备包括： 真空室； 基板支撑单元，所述基板支撑单元设置在所述真空室的内部的下部部分处；以及 电场形成单元，所述电场形成单元在所述真空室的内部形成电场； 其中，所述电场形成单元包括： 上电极，所述上电极设置在所述真空室的内部的上部部分处； 下电极，所述下电极设置在所述基板支撑单元中；以及 中间电极，所述中间电极设置在所述上电极和所述下电极之间， 其中，所述中间电极与所述晶圆的导电材料层电连接， 其中，所述晶圆包括下层、中间层和上层， 其中，所述中间电极与所述晶圆的所述中间层物理接触， 其中，所述晶圆的所述中间层包括金属蚀刻掩模层， 其中，施加到所述中间电极的中间电极电压被施加到所述晶圆的所述中间层， 其中，所述中间电极电压是落在施加到所述上电极的上电极电压和施加到所述下电极的下电极电压之间的中间电压。
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