合肥晶合集成电路股份有限公司刘秀梅获国家专利权
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龙图腾网获悉合肥晶合集成电路股份有限公司申请的专利一种掩模版的版图获取方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121613673B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610140395.8，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权一种掩模版的版图获取方法及系统是由刘秀梅;罗招龙设计研发完成，并于2026-02-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种掩模版的版图获取方法及系统在说明书摘要公布了：本发明提供了一种掩模版的版图获取方法及系统，方法包括：输入所述掩模版的版图设计图形，设置筛选区间，从所述版图设计图形中筛选出关键尺寸位于筛选区间内的稀疏图形，作为第一主图形，其中第一主图形的主图案按照阵列分布；设置筛选阈值，筛选图案间交错距离大于筛选阈值的第一主图形，作为第二主图形，其中图案间交错距离为相邻主图案在辅助图形延长线上的错位距离；沿辅助图形延长线，延伸第二主图形的主图案，直到多个主图案连接，获得第三主图形，并以第三主图形替换第二主图形；根据辅助图形的阈值规则，对版图设计图形添加辅助图形；以及对版图设计图形和辅助图形进行模拟光照测试，并根据测试结果调整辅助图形和版图设计图形。
本发明授权一种掩模版的版图获取方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种掩模版的版图获取方法，其特征在于，包括以下步骤： 输入所述掩模版的版图设计图形，设置筛选区间，从所述版图设计图形中筛选出关键尺寸位于所述筛选区间内的稀疏图形，作为第一主图形，其中所述第一主图形的主图案按照阵列分布； 设置筛选阈值，筛选图案间交错距离大于所述筛选阈值的所述第一主图形，作为第二主图形，其中图案间交错距离为相邻所述主图案在辅助图形延长线上的错位距离； 沿所述辅助图形延长线，延伸所述第二主图形的主图案，直到多个主图案连接，获得第三主图形，并以所述第三主图形替换所述第二主图形； 根据所述辅助图形的阈值规则，对所述版图设计图形添加辅助图形；以及 对所述版图设计图形和所述辅助图形进行模拟光照测试，并根据测试结果调整所述辅助图形和所述版图设计图形。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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