武汉精测电子集团股份有限公司;武汉精立电子技术有限公司余安澜获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉精测电子集团股份有限公司;武汉精立电子技术有限公司申请的专利一种基于空间调制的光谱共焦三维测量系统获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224136584U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-17发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202521209130.6，技术领域涉及：G01B11/24；该实用新型一种基于空间调制的光谱共焦三维测量系统是由余安澜;刘璐宁;苗丹设计研发完成，并于2025-06-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于空间调制的光谱共焦三维测量系统在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种基于空间调制的光谱共焦三维测量系统，包括，光源，用于产生复色光束；光空间调制元件，用于分时将光源的入射光的入射空间位置进行调节；色散成像光学组件，用于将经过光空间调制元件调节后的复色光束色散，并聚焦至第一空间方向上的不同深度；入射空间位置调节之后，与之相应的，不同深度的光入射至待测量样品表面的不同位置，被待测量样品反射后，耦合入成像光谱仪。按照本实用新型实现的系统，能够借助光空间调制元件在空间上对光位置的改变，和对应的色散成像光路元件的组合，有效提升测量精度和测量速度。
本实用新型一种基于空间调制的光谱共焦三维测量系统在权利要求书中公布了：1.一种基于空间调制的光谱共焦三维测量系统，其特征在于，该系统包括， 光源01，用于产生复色光束； 光空间调制元件04，用于分时将所述光源01的入射光的入射空间位置进行调节； 色散成像光学组件05、06、07，用于将经过所述光空间调制元件04调节后的所述复色光束色散，并聚焦至第一空间方向上的不同深度； 经所述光空间调制元件04进行空间位置调节之后的光，经所述色散成像光学组件05、06、07之后，入射至待测量样品08表面的不同位置，被待测量样品08反射后，耦合入成像光谱仪11； 所述第一空间方向为所述色散成像光学组件05、06、07的光轴方向或者与所述光轴方向平行的方向。
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