润晶(合肥)光电材料有限公司徐晴获国家专利权
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龙图腾网获悉润晶(合肥)光电材料有限公司申请的专利一种MoTi膜层复合蚀刻剂组合物获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121556037B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610091212.8，技术领域涉及：C23F1/26；该发明授权一种MoTi膜层复合蚀刻剂组合物是由徐晴;黄江林;钱凯;朱艳艳设计研发完成，并于2026-01-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种MoTi膜层复合蚀刻剂组合物在说明书摘要公布了：本发明提供一种MoTi膜层复合蚀刻剂组合物，涉及金属膜层蚀刻技术领域。所述复合蚀刻剂组合物由双氧水、氟化氢铵、弱有机酸、缓蚀剂、顺式‑1,4‑环己二羧酸、3‑氨基‑1,2,4‑三氮唑、络合剂、亚氨基二乙酸、有机醇和水组成；且氟化氢铵与顺式‑1,4‑环己二羧酸的添加量比值≥0.2。本发明克服了现有技术的不足，能够有效提升对MoTi膜层蚀刻的效率，同时减少对相邻金属层的侵蚀，实现对刻蚀速率的精确控制，保证蚀刻的稳定性，显著提高产品良率。
本发明授权一种MoTi膜层复合蚀刻剂组合物在权利要求书中公布了：1.一种MoTi膜层复合蚀刻剂组合物，其特征在于，所述组合物由以下质量百分数的原料组成：双氧水10.0%-12.0%、氟化氢铵0.05%-0.1%、弱有机酸4.0%-5.0%、缓蚀剂0.5%-1.5%、顺式-1,4-环己二羧酸0.2%-0.5%、3-氨基-1,2,4-三氮唑0.3%-0.5%、络合剂0.4%-0.6%、亚氨基二乙酸1.5%-2.5%、有机醇2.0%-3.0%，加水补足100%；且氟化氢铵与顺式-1,4-环己二羧酸的添加量比值≥0.2； 所述络合剂为亚氨基二琥珀酸四钠和谷氨酸钠按照质量比6-8∶1混合得到； 所述弱有机酸为柠檬酸、水杨酸、酒石酸、乳酸、醋酸中的任意一种或多种组合； 所述缓蚀剂为三乙醇胺； 所述有机醇为聚醚二元醇、丁二醇、三乙二醇中至少一种。
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