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龙图腾网获悉东京应化工业株式会社申请的专利感光性组合物的制造方法及制备用预混液、感光性组合物、干膜及抗蚀剂膜的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114641727B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080076631.5，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权感光性组合物的制造方法及制备用预混液、感光性组合物、干膜及抗蚀剂膜的制造方法是由小岛大辅;海老泽和明设计研发完成，并于2020-10-16向国家知识产权局提交的专利申请。

本感光性组合物的制造方法及制备用预混液、感光性组合物、干膜及抗蚀剂膜的制造方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种能够减少源自含硫化合物的异物的化学放大型感光性组合物的制造方法。为含有通过活性光线或放射线的照射而产生酸的产酸剂A、在室温下为固体的含硫化合物C、汉森溶解度参数的极性项δp为10MPa0.5以上的溶剂S1、不同于溶剂S1的溶剂S2的化学放大型感光性组合物的制造方法，具有：将含硫化合物C溶解于溶剂S1来制备含硫化合物C溶液的工序；以及将含硫化合物C溶液、产酸剂A、溶剂S2混合的工序。

本发明授权感光性组合物的制造方法及制备用预混液、感光性组合物、干膜及抗蚀剂膜的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种化学放大型感光性组合物的制造方法，该化学放大型感光性组合物含有通过活性光线或放射线的照射而产生酸的产酸剂A、在室温下为固体的含硫化合物C、汉森溶解度参数的极性项δp为10MPa0.5以上的溶剂S1、不同于所述溶剂S1的溶剂S2，其特征在于，具有： 将所述含硫化合物C溶解于所述溶剂S1来制备含硫化合物C溶液的工序；以及 将所述含硫化合物C溶液、所述产酸剂A、所述溶剂S2混合的工序， 所述溶剂S1为γ-丁内酯、二甲亚砜或N-甲基-2-吡咯烷酮， 所述含硫化合物C包含从以下述式c1-1表示的化合物及其互变异构体、和以下述式c2表示的化合物中选择的至少1种， [化1] 式c1-1中， 环A是环构成原子数为4以上8以下的单环， X1c为-NR13c-或=N-， R13c为氢原子、可具有取代基的碳原子数为1以上8以下的烷基、可具有取代基的碳原子数为1以上8以下的烯基、可具有取代基的碳原子数为1以上8以下的炔基、可具有取代基的碳原子数为4以上20以下的芳香族基团或羧基， [化2] 式c2中， Y1c以及Y2c分别独立地为氮原子， R21c以及R22c分别独立地为氢原子、碳原子数为1以上10以下的脂肪族烃基、碳原子数为6以上14以下的芳香族烃基、碳原子数为3以上18以下的脂环式烃基， R23c为氢原子、碳原子数为1以上10以下的脂肪族烃基、碳原子数为6以上14以下的芳香族烃基、碳原子数为3以上18以下的脂环式烃基、-SR24c或-NR25cR26c， R24c、R25c以及R26c分别独立地为氢原子、碳原子数为1以上10以下的脂肪族烃基、碳原子数为3以上10以下的脂环式烃基、碳原子数为6以上14以下的芳香族烃基或碳原子数为1以上12以下的酰基，R25c以及R26c中的脂肪族烃基、脂环式烃基、芳香族烃基以及酰基的氢原子可以被羟基取代， n以及m为0。

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