安集微电子(上海)有限公司李守田获国家专利权
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龙图腾网获悉安集微电子(上海)有限公司申请的专利一种化学机械抛光液及其使用方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114621684B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011452923.2，技术领域涉及：C09G1/02；该发明授权一种化学机械抛光液及其使用方法是由李守田;贾长征设计研发完成，并于2020-12-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种化学机械抛光液及其使用方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种化学机械抛光液及其使用方法。所述化学机械抛光液含有，氧化铈研磨颗粒，羟胺及其衍生物，以及pH调节剂,其中所述氧化铈研磨颗粒表面带有正电荷。使用本发明中的化学机械抛光液，随着晶圆上图案台阶高度的降低，抛光液的抛光速率也随之降低，从而实现自动停止的功能，并且使用条件较为温和，能够实现规模化生产使用，能够适用于具有不同图形的图片晶圆，在本领域具有广泛的使用前景。
本发明授权一种化学机械抛光液及其使用方法在权利要求书中公布了：1.一种化学机械抛光液，由氧化铈研磨颗粒，羟胺及其衍生物，以及pH调节剂组成； 其中所述氧化铈研磨颗粒表面带有正电荷；所述pH调节剂为羟基苯甲酸； 所述羟胺及其衍生物选自羟胺，N-甲基羟胺，N,N-二乙基羟胺的一种或多种；所述化学机械抛光液的pH值为3.0～6.0。
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