江苏天芯微半导体设备有限公司李进获国家专利权
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龙图腾网获悉江苏天芯微半导体设备有限公司申请的专利一种线圈支架结构及等离子体处理设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224110108U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-10发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422852063.1，技术领域涉及：H01F27/30；该实用新型一种线圈支架结构及等离子体处理设备是由李进;葛绍理设计研发完成，并于2024-11-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种线圈支架结构及等离子体处理设备在说明书摘要公布了：本实用新型提供了一种线圈支架结构及等离子体处理设备，包括：支架本体、线圈、固定件和间隔件，间隔件位于支架本体和线圈之间；支架本体具有上表面和与上表面相对的下表面，支架本体设有至少一个贯通上表面和下表面的安装沉孔，固定件通过支架本体的安装沉孔贯穿间隔件与线圈固定连接；支架本体下表面设有向支架本体延伸的凹槽，间隔件设置于凹槽中，凹槽包括底壁和侧壁；线圈具有与支架本体相对的第一表面；凹槽底壁与线圈第一表面的最短距离为d，间隔件的轮廓线从所述凹槽底壁至线圈第一表面的长度为D，最短距离d小于长度D。本实用新型在支架本体与线圈之间设置间隔件，线圈固定件之间的爬电距离被增大，降低了固定件之间放电的风险。
本实用新型一种线圈支架结构及等离子体处理设备在权利要求书中公布了：1.一种线圈支架结构，其特征在于，包括：支架本体、线圈、固定件和间隔件，所述间隔件位于支架本体和线圈之间； 所述支架本体具有上表面和与上表面相对的下表面，所述支架本体设有至少一个贯通上表面和下表面的安装沉孔，固定件通过支架本体的安装沉孔贯穿间隔件与线圈固定连接； 所述支架本体下表面设有向支架本体延伸的凹槽，所述凹槽包括底壁和侧壁，所述间隔件设置于凹槽中； 所述线圈具有与支架本体相对的第一表面；所述凹槽底壁与线圈第一表面的最短距离为d，间隔件的轮廓线从所述凹槽底壁至线圈第一表面的长度为D，其中，最短距离d小于长度D。
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