IMEC 非营利协会E·范科耶获国家专利权
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龙图腾网获悉IMEC 非营利协会申请的专利用于制备透射电子显微镜的样品的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113820340B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110659873.3，技术领域涉及：G01N23/2202；该发明授权用于制备透射电子显微镜的样品的方法是由E·范科耶;N·博斯曼;P·卡罗兰设计研发完成，并于2021-06-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于制备透射电子显微镜的样品的方法在说明书摘要公布了：提供了一种衬底，该衬底在其表面上包括由给定形貌限定的图案化区域。该衬底将被加工以获得该衬底的切片形式的TEM样品。根据本发明的方法，通过在该衬底的与该图案化区域隔开的局部目标区域上沉积对比材料层来在该形貌上沉积对比材料的共形层。该材料是通过电子束诱导沉积EBID来沉积的。沉积参数，沉积在目标区域中的层的厚度以及所述目标区域到该图案化区域的距离，使得对比材料的共形层被形成在该图案化区域的形貌上。在此之后是保护层的沉积，这不破坏图案化区域中的形貌，因为该形貌受共形层保护。TEM样品以本领域内已知的方式，例如通过FIB，来制备。共形对比层提供与保护层的良好对比度，由此允许高质量的TEM分析。
本发明授权用于制备透射电子显微镜的样品的方法在权利要求书中公布了：1.一种用于制备透射电子显微镜TEM的样品的方法，包括以下步骤： 提供衬底1、2，所述衬底在其表面上包括图案化区域8，所述图案化区域8包括限定形貌的图案特征3， 在所述图案化区域8上沉积保护层10， 通过移除所述衬底的薄切片4的任一侧的材料来以所述切片的形式产生所述样品，所述切片与至少数个所述特征3横向定向，以便通过TEM来可视化所述特征， 特征在于，所述方法进一步包括：在沉积所述保护层10的步骤之前的，通过在与所述图案化区域8隔开的至少一个目标区域6中局部沉积对比材料层5来在所述形貌上产生共形层7的步骤，其中所述局部沉积由只对所述至少一个目标区域6施加的电子束诱导沉积来执行，以使得所述对比材料的一部分也被沉积在所述目标区域6周围，由此在所述图案化区域8中的所述特征中的至少某一些特征上形成所述对比材料的共形层7。
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