北京晶亦精微科技股份有限公司高小辉获国家专利权
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龙图腾网获悉北京晶亦精微科技股份有限公司申请的专利一种抛光垫获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN224088750U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-07发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520678849.8,技术领域涉及:B24B37/26;该实用新型一种抛光垫是由高小辉;刘永进;汪志宇;樊成攀;杨少杰;张鑫磊设计研发完成,并于2025-04-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种抛光垫在说明书摘要公布了:本实用新型提供了一种抛光垫,上表面设有沟槽结构,沟槽结构包括中心环槽组、多个圆环槽组以及长弧形槽组,中心环槽组包括多个依次套设的第一环形沟槽;每个圆环槽组均包括若干个等间距同心套设的第二环形沟槽,自中心向外周各圆环槽组内的第二环形沟槽的间距逐渐减小;长弧形槽组包括多个径向弧形延伸的长弧形沟槽,长弧形沟槽的内端与位于中心环槽组外周边缘的第一环形沟槽连通。本实用新型提供的一种抛光垫,通过长弧形沟槽以及各个圆环槽组有助于抛光液的均匀分布,避免形成浓度梯度,提高了材料去除速率的均匀性,为碎屑提供了更顺畅的排出通道,减少了碎屑在沟槽结构内的堆积,从而降低了划伤晶圆表面的风险,提高了良品率。
本实用新型一种抛光垫在权利要求书中公布了:1.一种抛光垫,上表面设有沟槽结构,其特征在于,所述沟槽结构包括: 中心环槽组,位于所述抛光垫的中心区域,包括多个依次套设的第一环形沟槽; 多个圆环槽组,自所述中心环槽组的外周至所述抛光垫的外周依次套设,每个所述圆环槽组均包括若干个等间距同心套设的第二环形沟槽,自中心向外周,各所述圆环槽组内的所述第二环形沟槽的间距逐渐减小;以及 长弧形槽组,包括多个长弧形沟槽,多个所述长弧形沟槽沿所述抛光垫的周向间隔排布,每个所述长弧形沟槽均沿所述抛光垫的径向弧形延伸,且与各个所述第二环形沟槽连通,所述长弧形沟槽的内端与位于所述中心环槽组外周边缘的所述第一环形沟槽连通。
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